[实用新型]一种电子束发散角分布测量装置有效

专利信息
申请号: 201720499447.7 申请日: 2017-05-08
公开(公告)号: CN206710616U 公开(公告)日: 2017-12-05
发明(设计)人: 江孝国;王远;李洪;杨国君;龙全红;杨兴林;张小丁;陈楠;蒋薇;张卓;李一丁;李伟峰 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院流体物理研究所
主分类号: G01T1/29 分类号: G01T1/29
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220 代理人: 王记明
地址: 621000*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种电子束发散角分布测量装置,包括密封真空靶室、转换靶、防散射遮光筒,在密封真空靶室上设置有与防散射遮光筒对应的光线输出窗口,还包括一个成像系统,电子束轰击转换靶后产生切伦科夫辐射光,切伦科夫辐射光进入防散射遮光筒后通过光线输出窗口输出,经过窄带滤光片滤光后在成像系统上成像。本实用新型利用电子束轰击转换靶后产生切伦科夫辐射光,进入防散射遮光筒后通过光线输出窗口输出,经过窄带滤光片滤光后在成像系统上进行焦平面成像,利用焦平面的成像进行反演推算出电子束的发散角分布。
搜索关键词: 一种 电子束 发散 角分布 测量 装置
【主权项】:
一种电子束发散角分布测量装置,包括密封真空靶室(2),在密封真空靶室(2)内安装有一个转换靶(4),其特征在于:在所述密封真空靶室(2)内还安装有一个防散射遮光筒(5),在密封真空靶室(2)上设置有与防散射遮光筒(5)对应的光线输出窗口(6),还包括一个成像系统,电子束(1)轰击转换靶(4)后产生切伦科夫辐射光,切伦科夫辐射光进入防散射遮光筒(5)后通过光线输出窗口(6)输出,经过窄带滤光片(8)滤光后在成像系统上成像。
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