[实用新型]光罩组件以及曝光装置有效
| 申请号： | 201720497643.0 | 申请日： | 2017-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN206725960U | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 蔡财福 | 申请（专利权）人： | 东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司11283 | 代理人： | 李健,李翔 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州市昆山市开*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及显示技术领域，公开了一种光罩组件以及曝光装置，所述光罩组件(3)包括具有透光区域(300)和遮光区域(301)的光罩(30)以及至少覆盖所述透光区域(300)的第一偏光层(31)，所述光罩组件(3)还包括与所述光罩(30)相对设置且能够围绕垂直于所述光罩(30)的轴线旋转的偏光基板(32)。该光罩组件能够任意调节透过光罩的透光区域的光的透过率。在所述曝光装置中设置上述光罩组件(3)，能够改善制备工艺，例如可提高制备彩色滤光片中的不同的间柱层的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 组件 以及 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种光罩组件，其特征在于，所述光罩组件(3)包括具有透光区域(300)和遮光区域(301)的光罩(30)以及至少覆盖所述透光区域(300)的第一偏光层(31)，所述光罩组件(3)还包括与所述光罩(30)相对设置且能够围绕垂直于所述光罩(30)的轴线旋转的偏光基板(32)。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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