[实用新型]光罩组件以及曝光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，具体地，涉及一种光罩组件以及曝光装置。

背景技术

近年来，半色调掩膜版(Half Tone Mask)在薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)技术中得到了越来越广泛的应用，例如，半色调掩膜版在彩色滤光片的基板制作中就备受青睐。半色调掩膜版包括透明衬底、形成在透明衬底上能够完全透光的光透射部分、能够完全阻挡光的光阻挡部分以及具有能够部分透光的半色调层的半透过部分。

图1为现有技术所提供的LCD的剖面结构示意图。LCD包括具有彩色滤色膜110的基板11(即彩色滤光片)、阵列基板10以及夹置在具有彩色滤色膜110的基板11和阵列基板10之间的液晶层12，其中彩色滤色膜110与液晶层12相对。

彩色滤光片是用于TFT-LCD中以呈现色彩的基本结构。TFT-LCD中的背光模块发出光源，透过偏光片，液晶，彩膜滤光片而呈现多彩的表示形式。图2示出了现有技术中用于液晶显示器的彩色滤光片2，彩色滤光片2包括玻璃基板20、黑色矩阵21、彩色层22即彩色滤色膜、ITO(氧化铟锡)导电膜层23、平坦层24以及间柱(PS)层25，其中彩色层22包括了红色(R)滤色层、绿色(G)滤色层和蓝色(B)滤色层以及白色(W)滤色层，当彩色滤光片2与阵列基板组合时，间柱层25将能够将彩色滤光片2与阵列基板间隔开来从而在二者之间填充液晶材料。间柱层25又包括主要间柱层和次要间柱层，其中主要间柱层和次要间柱层之间能够形成差异，主要是由于通过半色调掩膜版的光的透过率不同而实现的。

目前，调节通过半色调掩膜版的光的透过率主要采用以下两种方式，一种是在原本不透光的区域设置遮挡物，使透光区域的光透过率降低；另一种是使得半色调掩膜版具有四种光透过率。虽然上述两种方式在一定程度上能够改变光的透过率，但是一旦半色调掩膜版制备完毕后，光的透过率变化均会受到较大限制。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种光罩组件，该光罩组件能够任意调节透过光罩的透光区域的光的透过率。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种光罩组件，所述光罩组件包括具有透光区域和遮光区域的光罩以及至少覆盖所述透光区域的第一偏光层，所述光罩组件还包括与所述光罩相对设置且能够围绕垂直于所述光罩的轴线旋转的偏光基板。

优选地，所述偏光基板包括透光基材和覆盖在所述透光基材上的第二偏光层。

优选地，所述第二偏光层位于所述透光基材的邻近所述光罩的一侧。

优选地，所述第二偏光层的厚度为50-500μm。

优选地，所述第一偏光层的厚度为50-500μm。

优选地，所述第一偏光层位于所述光罩的远离所述偏光基板的一侧。

优选地，所述偏光基板的旋转范围为使得所述第一偏光层的光轴和所述第二偏光层的光轴之间形成0-90°的夹角。

优选地，所述第一偏光层和所述第二偏光层均为聚乙烯醇材料层。

在上述技术方案中，通过至少在所述光罩的所述透光区域覆盖所述第一偏光层以及在所述光罩相对位置处设置能够围绕垂直于所述光罩的轴线旋转的所述偏光基板，从而能够任意调节所述第一偏光层的光轴与所述偏光基板的光轴之间的夹角，由此可根据实际需求调节透过所述光罩的所述透光区域的光的透过率。

本实用新型的另一目的在于提供一种曝光装置，所述曝光装置包括曝光机和本实用新型所提供的光罩组件，其中，所述偏光基板位于所述曝光机和所述光罩之间。由于在所述曝光装置中采用了本实用新型所提供的光罩组件，其中所述偏光基板能够相对于至少覆盖于所述光罩的所述透光区域的所述第一偏光层旋转，从而能够调节通过所述光罩的所述透光区域的光的透过率，在该曝光装置的作用下能够方便的制备出彩色滤光片的不同的间柱层如主要间柱层和次要间柱层，从而改善了制备工艺，大大提高了作业效率。

本实用新型的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是根据现有技术所提供的LCD的剖面结构示意图；

图2是根据现有技术的用于液晶显示器的彩色滤光片的剖面结构示意图；

图3是根据本实用新型优选实施方式提供的光罩组件的整体结构示意图。