[实用新型]一种边缘环结构

摘要

本实用新型提供了一种边缘环结构，应用于铝线刻蚀设备中，其中，包括环状本体，用以套设于吸附盘本体的边缘上；环状本体上设置有一与边缘适配的环形突出部，边缘用以承托环形突出部；环形凸起，设置于环状本体上，环形凸起与环状本体为同心圆设置；环形凸起于朝向环状本体的圆心的一侧设置有一预定角度的斜坡，环形凸起的底部与静电吸附盘的底部齐平。边缘环包括环状本体；凹槽，开设于环装本体的内侧，凹槽对应静电吸附盘的边缘，用以将边缘环套设于静电吸附盘上；环形凸起，设置于环状本体上。其技术方案的有益效果在于，可有效的解决由于边缘环的阻挡致使反应生成的残留物聚集于晶圆边缘，造成产品良品率低以及机台设备产能较低的缺陷。

主权项

一种边缘环结构，应用于铝线刻蚀设备中，所述铝线刻蚀设备包括一反应腔体，所述反应腔体中设置有一静电吸附盘以及一边缘环，所述静电吸附盘包括吸附盘本体，以及设置于所述吸附盘本体上凸出的边缘，所述吸附盘本体的顶部用以放置晶圆；其特征在于，所述边缘环包括：环状本体，用以套设于所述吸附盘本体的边缘上；所述环状本体上设置有一与所述边缘适配的环形突出部，所述边缘用以承托所述环形突出部；环形凸起，设置于所述环状本体上，所述环形凸起与所述环状本体为同心圆设置；所述环形凸起于朝向所述环状本体的圆心的一侧设置有一预定角度的斜坡，所述环形凸起的底部与所述静电吸附盘的底部齐平。