[实用新型]喷嘴单元及包括其的基板处理装置有效
| 申请号： | 201720131538.5 | 申请日： | 2017-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN206661766U | 公开（公告）日： | 2017-11-24 |
| 发明（设计）人： | 尹勤植 | 申请（专利权）人： | K.C.科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B5/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京冠和权律师事务所11399 | 代理人： | 朱健,陈国军 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种喷嘴单元及包括其的基板处理装置，喷嘴单元包括喷嘴体，其形成有混合室；气体供给流路，其将气体沿着第一方向供给于混合室；液体供给流路，其设置有多个液体供给通道，所述多个液体供给通道将液体沿着与第一方向相交叉的第二方向供给于混合室；排出流路，其与混合室相连通，并且将在混合室混合的混合流体排出至所述喷嘴体的外部，据此可得到的有利的效果在于，提高气体和液体的混合均匀度。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 单元 包括 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种喷嘴单元，其特征在于，包括：喷嘴体，其形成有混合室；气体供给流路，其将气体沿着第一方向供给于所述混合室；液体供给流路，其设置有多个液体供给通道，所述多个液体供给通道将液体沿着与所述第一方向相交叉的第二方向供给于所述混合室；排出流路，其与所述混合室相连通，并且将在所述混合室混合的混合流体排出至所述喷嘴体的外部。
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