[实用新型]喷嘴单元及包括其的基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201720131538.5 申请日: 2017-02-14
公开(公告)号: CN206661766U 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 尹勤植 申请(专利权)人: K.C.科技股份有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B5/02;H01L21/67
代理公司: 北京冠和权律师事务所11399 代理人: 朱健,陈国军
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 喷嘴 单元 包括 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种喷嘴单元,其特征在于,包括:

喷嘴体,其形成有混合室;

气体供给流路,其将气体沿着第一方向供给于所述混合室;

液体供给流路,其设置有多个液体供给通道,所述多个液体供给通道将液体沿着与所述第一方向相交叉的第二方向供给于所述混合室;

排出流路,其与所述混合室相连通,并且将在所述混合室混合的混合流体排出至所述喷嘴体的外部。

2.根据权利要求1所述的喷嘴单元,其特征在于,

所述多个液体供给通道沿着所述混合室的圆周方向隔开地配置。

3.根据权利要求1所述的喷嘴单元,其特征在于,

还包括液体供给室,所述液体供给室与所述多个液体供给通道相连通,

所述液体经过所述液体供给室供给至所述多个液体供给通道。

4.根据权利要求1所述的喷嘴单元,其特征在于,

在所述喷嘴体的内部形成有嵌件容纳部,喷嘴嵌件容纳于所述嵌件容纳部,

在所述喷嘴嵌件形成有所述混合室、所述气体供给流路和所述液体供给流路。

5.根据权利要求4所述的喷嘴单元,其特征在于,所述喷嘴嵌件包括:

第一嵌件部件,其形成有所述气体供给流路;

第二嵌件部件,其配置于所述第一嵌件部件的下部,在内部形成有所述混合室,在壁面形成有所述液体供给流路。

6.根据权利要求5所述的喷嘴单元,其特征在于,

包括延长嵌件部,所述延长嵌件部凸出于所述第一嵌件部件的下部,并且配置于所述混合室的内部,

所述气体通过所述延长嵌件部供给至所述混合室的内部。

7.根据权利要求6所述的喷嘴单元,其特征在于,

在所述延长嵌件部的下端部外面形成有倾斜引导面,

沿着所述液体供给流路被供给的所述液体沿着所述倾斜引导面引导至所述混合室。

8.根据权利要求4所述的喷嘴单元,其特征在于,

在所述喷嘴体的壁面形成有与所述液体供给流路相连通的液体供给孔。

9.根据权利要求1至8中任意一项所述的喷嘴单元,其特征在于,所述排出流路包括:

第一排出通道,其连通于所述混合室;

第二排出通道,其形成为连通于所述第一排出通道并具有比所述第一排出通道更加扩张的截面积。

10.根据权利要求9所述的喷嘴单元,其特征在于,

所述第一排出通道形成为具有比所述混合室更加缩小的截面积。

11.根据权利要求9所述的喷嘴单元,其特征在于,

所述第二排出通道形成为具有比所述混合室更加缩小的截面积。

12.根据权利要求1至8中任意一项所述的喷嘴单元,其特征在于,

还包括混合诱导部,所述混合诱导部在所述混合室内对所述液体和所述气体的混合进行强制地诱导。

13.根据权利要求12所述的喷嘴单元,其特征在于,

所述混合诱导部在所述混合室内强制地形成由所述液体和所述气体中至少任意一个而产生的涡流。

14.根据权利要求13所述的喷嘴单元,其特征在于,

所述混合诱导部包括凸出部和凹陷部中至少任意一个,所述凸出部形成于所述混合室的内壁面,所述凹陷部形成于所述混合室的内壁面。

15.根据权利要求13所述的喷嘴单元,其特征在于,

所述凸出部和所述凹陷部以沿着所述混合室的圆周方向连续地形成波形的形式反复地形成。

16.根据权利要求1至8中任意一项所述的喷嘴单元,其特征在于,

所述气体供给流路包括以隔开的形式配置的多个气体供给通道。

17.根据权利要求16所述的喷嘴单元,其特征在于,

所述多个气体供给通道以整齐排列的形式配置。

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