[发明专利]气体分析装置

摘要

气体分析装置，包括：用于容纳待分析气体的气体腔；辐射源，被设置用于将电磁辐射发射到气体腔中，其中电磁辐射被设置用于选择性地激发待分析气体的分子；以及传感器，被设置用于侦测物理参量，物理参量包含关于由辐射源发射的电磁辐射与容纳在气体腔中的气体的相互作用程度的信息，其中辐射源包括：可电加热的扁平的辐射元件，被设置用于发射电磁辐射；以及壳体，具有扁平的第一和第二壳壁，这些壳壁在它们之间限定并直接邻接不透流体地与辐射源的周边环境分离的辐射元件容纳腔，在辐射元件容纳腔中具有比常压小的气压并且辐射元件的至少一个区段与第一和/或第二壳壁间隔布置，其中第一和/或第二壳壁对于从辐射源可发射的电磁辐射是可透射的。

主权项

1.一种气体分析装置，包括：气体腔，用于容纳有待分析的气体，辐射源，所述辐射源被设置用于将电磁辐射发射到所述气体腔中，其中所述电磁辐射被设置用于选择性地激发有待分析的气体的分子，以及传感器，所述传感器被设置用于侦测物理参量，所述物理参量包含信息，所述信息关于由所述辐射源发射的所述电磁辐射与被容纳在气体腔中的所述气体的相互作用程度，其中，所述辐射源包括：能够电加热的扁平的辐射元件，所述辐射元件被设置用于发射电磁辐射；以及壳体，具有扁平的第一壳壁和第二壳壁，所述第一壳壁和所述第二壳壁在它们之间限定并且直接邻接不透流体地与所述辐射源的周边环境分离的辐射元件容纳腔，在所述辐射元件容纳腔中具有相比于常压更小的气压，并且在所述辐射元件容纳腔中使得所述辐射元件的至少一个区段与所述第一壳壁和/或所述第二壳壁间隔地布置，其中所述第一壳壁和/或所述第二壳壁对于从所述辐射元件能够发射的电磁辐射是可透射的。