[发明专利]高光膜及其表面处理方法有效

专利信息
申请号: 201711466368.7 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN108102126B 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 吴启超;徐芳;周春发;王东勇;黎华强;宋岱瀛 申请(专利权)人: 安徽天安新材料有限公司
主分类号: C08J7/046 分类号: C08J7/046;C08J7/12;C08L27/06
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 韩建伟;谢湘宁
地址: 239500 安徽省滁州*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供了一种高光膜及其表面处理方法。该表面处理方法包括在高光膜表面涂覆表面处理剂,得到待处理膜;以及对待处理膜进行辐射交联,得到处理后的高光膜,其中,表面处理剂为PUA。本申请的高光膜的表面处理方法,通过将原有的高光膜进行涂覆表面处理改性剂之后,经辐照交联处理,使得膜表面的分子与表面处理剂之间发生交联反应,增加高光膜表面高聚物的交联密度,从而提高了此类高光膜的耐磨性,大大扩展了该类膜的应用范围。
搜索关键词: 高光膜 及其 表面 处理 方法
【主权项】:
1.一种高光膜的表面处理方法,其特征在于,所述表面处理方法包括:在所述高光膜表面涂覆表面处理剂,得到待处理膜;以及对所述待处理膜进行辐射,得到处理后的高光膜;其中,所述表面处理剂为PUA。
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