[发明专利]高光膜及其表面处理方法有效
| 申请号： | 201711466368.7 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108102126B | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 吴启超;徐芳;周春发;王东勇;黎华强;宋岱瀛 | 申请（专利权）人： | 安徽天安新材料有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/046 | 分类号： | C08J7/046;C08J7/12;C08L27/06 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 韩建伟;谢湘宁 |
| 地址： | 239500 安徽省滁州*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高光膜 及其 表面 处理 方法 | ||
1.一种高光膜的表面处理方法，其特征在于，所述表面处理方法包括：
在所述高光膜表面涂覆表面处理剂，得到待处理膜；以及
对所述待处理膜进行辐射，得到处理后的高光膜；
其中，所述表面处理剂为PUA，所述高光膜为PVC高光膜，对所述待处理膜进行辐射的步骤中，控制辐照能量为2～45KGY，控制电压为120～200KeV，控制膜的移动速度为5～25m/min，控制辐照时间为0.04～10s，
所述PVC高光膜的组成，按重量份计，包括：100份PVC、0～10份增塑剂、1～10份稳定剂、5～20份MBS抗冲改性剂、1～5份润滑剂以及1～10份交联单体，所述高光膜表面经微凹辊逆辊涂布所述表面处理剂，并控制所述待处理膜的湿涂布量为10～45克/平方米，涂覆所述表面处理剂的涂层的厚度为2～45微米。
2.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，涂覆所述表面处理剂的涂层的厚度为3～30微米。
3.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述表面处理方法通过将所述表面处理剂分散于溶剂中形成表面处理液后涂覆在所述高光膜表面，所述表面处理液中所述表面处理剂的重量浓度为20～100％。
4.根据权利要求3所述的表面处理方法，其特征在于，所述表面处理液的溶剂为丁酮或醋酸乙酯。
5.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，对所述待处理膜进行辐射的步骤中，控制辐照能量为12～45KGY。
6.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，对所述待处理膜进行辐射的步骤中，控制膜的移动速度为12～25m/min。
7.一种高光膜，其特征在于，所述高光膜采用权利要求1至6中任一项所述的表面处理方法处理得到。
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