[发明专利]一种低成本MWT硅太阳能电池及其制备方法在审
申请号: | 201711447555.0 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN108155250A | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 李质磊;安欣睿;逯好峰;吴仕梁;路忠林;盛雯婷;张凤鸣 | 申请(专利权)人: | 南京日托光伏科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 王艳丽 |
地址: | 211800 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种低成本MWT硅太阳能电池及其制备方法,低成本MWT硅太阳能电池,包括硅片,设于硅片正面的正面栅线电极,覆于正面栅线电极及硅片正面的减反膜以及设于硅片背面的铝背场,硅片开设有多个贯穿孔,孔内填充有灌孔金属电极,灌孔金属电极的顶部覆盖有正面金属电极,底部设有背面金属电极,正面栅线电极与正面金属电极相连通。制备方法包括:激光打孔;制绒;扩散;掩膜;刻蚀;正电极制备;镀膜;背电极及铝背场制备;烧结。本发明能大幅降低晶硅制备成本。由于正面电极不用穿透氮化硅膜,烧结温度可以降低到700°以下,可以有效降低甚至避免因P型基体硅中的B‑O引起的电性能衰减,且降低能耗。 | ||
搜索关键词: | 制备 硅太阳能电池 正面栅线电极 低成本 硅片 正面金属电极 硅片正面 金属电极 烧结 铝背场 灌孔 背面金属电极 氮化硅膜 激光打孔 正面电极 背电极 电性能 贯穿孔 正电极 镀膜 晶硅 刻蚀 衰减 掩膜 制绒 填充 穿透 扩散 覆盖 | ||
【主权项】:
一种低成本MWT硅太阳能电池,其特征在于,包括硅片(1),设于硅片(1)正面的正面栅线电极(2),覆于正面栅线电极及硅片正面的减反膜(3)以及设于硅片背面的铝背场(4),硅片开设有多个贯穿孔,孔内填充有灌孔金属电极(5),灌孔金属电极(5)的顶部覆盖有正面金属电极(6),底部设有背面金属电极(7),正面栅线电极(2)与正面金属电极(6)相连通。
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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