[发明专利]一种低成本MWT硅太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711447555.0 申请日: 2017-12-27
公开(公告)号: CN108155250A 公开(公告)日: 2018-06-12
发明(设计)人: 李质磊;安欣睿;逯好峰;吴仕梁;路忠林;盛雯婷;张凤鸣 申请(专利权)人: 南京日托光伏科技股份有限公司
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 王艳丽
地址: 211800 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 制备 硅太阳能电池 正面栅线电极 低成本 硅片 正面金属电极 硅片正面 金属电极 烧结 铝背场 灌孔 背面金属电极 氮化硅膜 激光打孔 正面电极 背电极 电性能 贯穿孔 正电极 镀膜 晶硅 刻蚀 衰减 掩膜 制绒 填充 穿透 扩散 覆盖
【权利要求书】:

1.一种低成本MWT硅太阳能电池,其特征在于,包括硅片(1),设于硅片(1)正面的正面栅线电极(2),覆于正面栅线电极及硅片正面的减反膜(3)以及设于硅片背面的铝背场(4),硅片开设有多个贯穿孔,孔内填充有灌孔金属电极(5),灌孔金属电极(5)的顶部覆盖有正面金属电极(6),底部设有背面金属电极(7),正面栅线电极(2)与正面金属电极(6)相连通。

2.根据权利要求1所述的低成本MWT硅太阳能电池,其特征在于,减反膜为氮化硅减反膜。

3.根据权利要求1所述的低成本MWT硅太阳能电池,其特征在于,正面栅线电极由非穿透型浆料制备。

4.根据权利要求3所述的低成本MWT硅太阳能电池,其特征在于,所述非穿透型浆料为铜浆或不能穿透减反膜的银浆。

5.根据权利要求1~4任一项所述的低成本MWT硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括:

(1)激光打孔:通过激光在硅片上制备孔洞;

(2)制绒:在硅片上制绒,形成光陷阱表面;

(3)扩散:使用扩散源在绒面上扩散掺杂形成PN结;

(4)掩膜:在硅片背表面制备起刻蚀掩蔽作用的掩膜;

(5)刻蚀:利用化学药液去除硅片边缘及背面多余的PN结;去除掩膜浆料;去除磷硅玻璃;

(6)正电极制备:在硅片正表面制备正电极;

(7)镀膜:制备减反膜,减反膜覆盖正电极及硅片正表面;

(8)背电极及铝背场制备:在硅片背表面制备背电极及铝背场;

(9)烧结:共烧结形成正面电极欧姆接触及形成背电场。

6.根据权利要求5所述的低成本MWT硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,正电极采用丝网印刷、电镀、化学镀或喷涂的方法进行制备。

7.根据权利要求1所述的低成本MWT硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述烧结的温度为500~700℃。

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