[发明专利]一种低成本MWT硅太阳能电池及其制备方法在审
申请号: | 201711447555.0 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN108155250A | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 李质磊;安欣睿;逯好峰;吴仕梁;路忠林;盛雯婷;张凤鸣 | 申请(专利权)人: | 南京日托光伏科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 王艳丽 |
地址: | 211800 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 硅太阳能电池 正面栅线电极 低成本 硅片 正面金属电极 硅片正面 金属电极 烧结 铝背场 灌孔 背面金属电极 氮化硅膜 激光打孔 正面电极 背电极 电性能 贯穿孔 正电极 镀膜 晶硅 刻蚀 衰减 掩膜 制绒 填充 穿透 扩散 覆盖 | ||
1.一种低成本MWT硅太阳能电池,其特征在于,包括硅片(1),设于硅片(1)正面的正面栅线电极(2),覆于正面栅线电极及硅片正面的减反膜(3)以及设于硅片背面的铝背场(4),硅片开设有多个贯穿孔,孔内填充有灌孔金属电极(5),灌孔金属电极(5)的顶部覆盖有正面金属电极(6),底部设有背面金属电极(7),正面栅线电极(2)与正面金属电极(6)相连通。
2.根据权利要求1所述的低成本MWT硅太阳能电池,其特征在于,减反膜为氮化硅减反膜。
3.根据权利要求1所述的低成本MWT硅太阳能电池,其特征在于,正面栅线电极由非穿透型浆料制备。
4.根据权利要求3所述的低成本MWT硅太阳能电池,其特征在于,所述非穿透型浆料为铜浆或不能穿透减反膜的银浆。
5.根据权利要求1~4任一项所述的低成本MWT硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括:
(1)激光打孔:通过激光在硅片上制备孔洞;
(2)制绒:在硅片上制绒,形成光陷阱表面;
(3)扩散:使用扩散源在绒面上扩散掺杂形成PN结;
(4)掩膜:在硅片背表面制备起刻蚀掩蔽作用的掩膜;
(5)刻蚀:利用化学药液去除硅片边缘及背面多余的PN结;去除掩膜浆料;去除磷硅玻璃;
(6)正电极制备:在硅片正表面制备正电极;
(7)镀膜:制备减反膜,减反膜覆盖正电极及硅片正表面;
(8)背电极及铝背场制备:在硅片背表面制备背电极及铝背场;
(9)烧结:共烧结形成正面电极欧姆接触及形成背电场。
6.根据权利要求5所述的低成本MWT硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,正电极采用丝网印刷、电镀、化学镀或喷涂的方法进行制备。
7.根据权利要求1所述的低成本MWT硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述烧结的温度为500~700℃。
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