[发明专利]光学跟踪系统及光学跟踪方法有效
| 申请号： | 201711403280.0 | 申请日： | 2017-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN109938843B | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 洪德和 | 申请（专利权）人： | 株式会社高迎科技 |
| 主分类号： | A61B34/30 | 分类号： | A61B34/30;A61B34/20 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种跟踪标记的位置及姿势的光学跟踪系统。光学跟踪系统包括：成像装置，其包括对标记的至少一部分进行成像而生成光场图像的第一成像部及对从开口释放的出射光进行成像的第二成像部；及处理器，其以第一图像为基础，决定标记的姿势，基于第二图像及第三图像，决定标记的位置，其中，所述第一图像是从光场图像，作为在无限大焦距处成像的图像而提取并由图案面的一部分成像的图像，所述第二图像是从光场图像，作为在比无限大焦距近的焦距处成像的图像而提取的图像，所述第三图像是在与朝向第一成像部的出射光不同的方向，由通过开口释放的出射光借助于第二成像部而成像的图像。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 跟踪 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学跟踪系统，作为跟踪标记的位置及姿势的光学跟踪系统，其中，所述标记能够附着于对象体，构成得通过在开口形成的光学系而看到在内部形成的图案面，所述光学跟踪系统包括：成像装置，其包括对所述标记的至少一部分进行成像而生成光场图像的第一成像部及对从所述开口释放的出射光进行成像的第二成像部；及处理器，其以第一图像为基础，决定所述标记的姿势，基于第二图像及第三图像，决定所述标记的位置，其中，所述第一图像是从所述光场图像，作为在无限大焦距处成像的图像而提取的并由所述图案面的一部分成像的图像，所述第二图像是从所述光场图像，作为在比所述无限大焦距近的焦距处成像的图像而提取的图像，所述第三图像是在与朝向所述第一成像部的出射光不同的方向，由通过所述开口释放的出射光借助于所述第二成像部而成像的图像。
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