[发明专利]移印腐蚀印油釉及其制备方法在审
| 申请号： | 201711316805.7 | 申请日： | 2017-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108017282A | 公开（公告）日： | 2018-05-11 |
| 发明（设计）人： | 杨玲 | 申请（专利权）人： | 杨玲 |
| 主分类号： | C03C8/00 | 分类号： | C03C8/00;C04B41/86 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 何耀煌 |
| 地址： | 412200 湖南省株洲市醴*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种移印腐蚀印油釉，移印腐蚀印油釉的各组分和各组分质量如下：长石10％～12％；氧化锌2％～3％；纯碱2％～3％；硼砂2％～3％；方解石4％～6％；五氧化二钒15％～20％；印油55％～60％；本发明是釉中浮雕系列产品的延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 腐蚀 印油 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种移印腐蚀印油釉，其特征在于它所使用的釉料的组分和各组分重量百分比如下：长石10％～12％；氧化锌2％～3％；纯碱2％～3％；硼砂2％～3％；方解石4％～6％；五氧化二钒15％～20％；印油55％～60％。
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