[发明专利]基于金属多层介质膜的偏振选择反射式光栅有效

专利信息
申请号: 201711252001.5 申请日: 2017-12-01
公开(公告)号: CN108008478B 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 关贺元;江梦江;李翰光;郎宇威;王晓丽;陈哲;余健辉;卢惠辉;朱文国 申请(专利权)人: 暨南大学
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 邱奕才;凌衍芬
地址: 510632 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种用于1550纳米中心波长的基于金属多层介质膜的偏振选择反射式光栅,包括自内向外依次镀制的石英基底、金属层、匹配层和光栅刻蚀层,所述光栅刻蚀层包括自内向外依次镀制的第一低折射率膜层和第一高折射率膜层,所述匹配层包括自内向外依次镀制的第二低折射率膜层与第二高折射率膜层,所述光栅刻蚀层的周期为1200~1300纳米,占空比为0.2~0.4,第一低折射率膜层的厚度为100~160纳米,第一高折射率膜层的厚度为240~310纳米,第二高折射率层的厚度为90~150纳米;第二低折射率膜层的厚度为240~300纳米,所述的金属层的厚度大于50纳米。本发明具有宽光谱、宽角谱、高衍射效率等特点,且对不同偏振的入射光表现出完全不同的衍射特性。
搜索关键词: 基于 金属 多层 介质 偏振 选择 反射 光栅
【主权项】:
1.一种用于1550纳米中心波长的基于金属多层介质膜的偏振选择反射式光栅,其特征在于,包括自内向外依次镀制的石英基底(1)、金属层(2)、匹配层(3)和光栅刻蚀层(4),所述光栅刻蚀层(4)包括自内向外依次镀制的第一低折射率膜层(41)和第一高折射率膜层(42),所述匹配层(3)包括自内向外依次镀制的第二低折射率膜层(31)与第二高折射率膜层(32),所述光栅刻蚀层(4)的周期为1200~1300纳米,占空比为0.2~0.4,第一低折射率膜层(41)的厚度为100~160纳米,第一高折射率膜层(42)的厚度为240~310纳米,第二高折射率层(31)的厚度为90~150纳米;第二低折射率膜层(32)的厚度为240~300纳米,所述的金属层(2)的厚度大于50纳米。
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