[发明专利]一种使用深N阱隔离的MRAM芯片在审

专利信息
申请号: 201711250206.X 申请日: 2017-12-01
公开(公告)号: CN109873008A 公开(公告)日: 2019-06-11
发明(设计)人: 戴瑾;王志刚 申请(专利权)人: 上海磁宇信息科技有限公司
主分类号: H01L27/22 分类号: H01L27/22
代理公司: 上海容慧专利代理事务所(普通合伙) 31287 代理人: 于晓菁
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种使用深N阱隔离的MRAM芯片,所述MRAM芯片包括MRAM器件及电路、P型半导体衬底、N阱和深N阱;所述N阱位于所述MRAM器件及电路外围,所述深N阱位于所述MRAM器件及电路下方,所述N阱底部与所述深N阱连接在一起,对所述MRAM器件及电路形成三维N阱‑深N阱隔离。本发明能够有效隔绝噪音,提高MRAM芯片读出稳定性。
搜索关键词: 深N阱 芯片 电路 隔离 电路形成 衬底 读出 三维 噪音 外围
【主权项】:
1.一种使用深N阱隔离的MRAM芯片,所述MRAM芯片包括MRAM器件及电路、P型半导体衬底、N阱和深N阱,其特征在于,所述P型半导体衬底位于所述MRAM器件及电路下方;所述N阱和所述深N阱位于所述P型半导体内;所述N阱位于所述MRAM器件及电路外围,所述深N阱位于所述MRAM器件及电路下方,所述N阱底部与所述深N阱连接在一起,对所述MRAM器件及电路形成三维N阱‑深N阱隔离。
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