[发明专利]一种改善光刻缺陷以及延长光刻版使用期限的方法

摘要

一种改善光刻缺陷以及延长光刻版使用期限的方法，包括如下步骤：a)在外延片的衬底及外延层表面旋涂光刻胶形成第一光刻胶层；b)在第一光刻胶层上旋涂第二光刻胶层；c)利用光刻掩膜版通过曝光、曝光后烘烤及显影方法在第二光刻胶层上根据掩膜版图形尺寸光刻制备出需要的图形；d)利用步骤c)中光刻出的图形作为光刻掩膜版，将外延片进行二次曝光、显影处理，在外延片上制备得到所需图形。通过延长一次曝光后烘烤的时间和第二次曝光的时间就可以得到缺陷比较少的图形得到缺陷较少的图形，避免因为光刻掩膜版的损伤对光刻图形造成缺陷，也不需要经常替换光刻版，增加光刻成本，延长光刻掩膜版的使用期限。

主权项

1.一种改善光刻缺陷以及延长光刻版使用期限的方法，其特征在于，包括如下步骤：a) 在生长有外延层的外延片（1）表面旋涂光刻胶形成第一光刻胶层（2），烘烤去除第一光刻胶层（2）中的溶剂；b)在第一光刻胶层（2）上旋涂第二光刻胶层（3），烘烤去除第二光刻胶层（3）中的溶剂；c)利用光刻掩膜版（4）通过曝光、曝光后烘烤及显影方法在第二光刻胶层（3）上根据掩膜版图形尺寸（6）光刻制备出需要的图形，制备完成后进行去水烘烤；d)利用步骤c)中光刻出的图形作为光刻掩膜版，将外延片（1）进行二次曝光、显影处理，在外延片（1）上制备得到所需图形。