[发明专利]一种刻蚀终点确定方法、晶圆刻蚀方法以及刻蚀系统

摘要

本申请提供一种刻蚀终点确定方法、晶圆刻蚀方法以及刻蚀系统，所述刻蚀终点确定方法采用矩形窗口选取波峰或波谷附近的多个数据，计算得到波峰或波谷的较为准确的位置，再以最后的半个周期的刻蚀速率作为最后不足半个周期的样品晶圆刻蚀速率，从而将多个刻蚀时间求和，得到最终样品晶圆的刻蚀终点对应的刻蚀时间，得到样品晶圆的刻蚀终点。相对于现有技术中认为刻蚀速率为均匀的，且光谱数据为平滑曲线而言，考虑了更多的影响因素，从而使得刻蚀终点的确定更加精确，使后续晶圆刻蚀的刻蚀终点更加精确，减少了刻蚀不到位或过量刻蚀的情况出现，进而提高了产品合格率。

主权项

一种刻蚀终点确定方法，其特征在于，包括：获取光谱数据，所述光谱数据由样品晶圆刻蚀过程采集得到，所述光谱数据为横轴为时间，纵轴为光强的正弦曲线图；获取所述光谱数据中的多个波峰和多个波谷；基于预设的多个矩形窗口，从所述光谱数据中获取每个所述波峰和所述波谷对应的时间，得到多个半周期；其中，所述矩形窗口包括相对设置的上边框和下边框，以及相对设置的左边框和右边框，所述矩形窗口的参数包括窗口宽度和窗口高度，与所述波峰对应的所述矩形窗口的上边框中点与所述波峰重合，与所述波谷对应的所述矩形窗口的下边框中点与所述波谷重合；根据所述光谱数据中最后一个波峰和最后一个波谷时间差，以及所述样品晶圆刻蚀被刻蚀所述多个半周期之后的剩余厚度，得到刻蚀终点对应的时间。