[发明专利]一种针对光场阵列相机的基于重投影的重聚焦方法及系统在审

专利信息
申请号: 201711142290.3 申请日: 2017-11-17
公开(公告)号: CN107977993A 公开(公告)日: 2018-05-01
发明(设计)人: 杨俊刚;肖超;王应谦;李骏;安玮 申请(专利权)人: 杨俊刚;肖超;王应谦
主分类号: G06T7/557 分类号: G06T7/557;G06T7/80
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司43113 代理人: 魏国先,王娟
地址: 410000 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种针对光场阵列相机的基于重投影的重聚焦方法及系统,对相机阵列进行校正;指定相机阵列中的一个相机为参考相机,通过反投影求解所述参考相机的像素坐标对应的世界坐标网格点;将所述世界坐标网格点通过其他相机重投影为像素坐标,根据所述像素坐标,将对应的图像进行插值,得到对准到指定平面的图像;将插值得到的图像相加求平均值即得到聚焦于指定平面的图像。本发明方法简单灵活,只需要改变聚焦平面的方程就可以得到相应的重聚焦图像,操作方便,易于编程实现。随着阵列相机的不断推广,本发明的方法具有较大的实用价值。
搜索关键词: 一种 针对 阵列 相机 基于 投影 聚焦 方法 系统
【主权项】:
一种针对光场阵列相机的基于重投影的重聚焦方法,其特征在于,包括以下步骤:1)对相机阵列进行校正;2)指定相机阵列中的一个相机为参考相机,通过反投影求解所述参考相机的像素坐标对应的世界坐标网格点;3)将所述世界坐标网格点通过其他相机重投影为像素坐标,根据所述像素坐标,将对应的图像进行插值,得到对准到指定平面的图像;4)将插值得到的图像相加求平均值即得到聚焦于指定平面的图像。
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