[发明专利]基于扫描电子显微镜的三维关键尺寸测量方法有效

专利信息
申请号: 201711139423.1 申请日: 2017-11-16
公开(公告)号: CN107990852B 公开(公告)日: 2019-11-26
发明(设计)人: 屠礼明;巴特尔;芈健;周毅;邓常敏;张硕;陈子琪 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: G01B15/00 分类号: G01B15/00
代理公司: 11619 北京辰权知识产权代理有限公司 代理人: 刘广达<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 430074 湖北省武汉市洪山区东*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种基于扫描电子显微镜的三维关键尺寸测量方法,属于半导体技术领域。所述方法包括:将电子束沿竖直方向倾斜第一角度入射沟道,通过扫描电子显微镜拍摄沟道图片得到第一图片,分析第一图片得第一角度的正切表达式;将电子束沿竖直方向倾斜第二角度入射沟道,第二角度与第一角度不等,通过扫描电子显微镜拍摄沟道图片得到第二图片,分析第二图片得到第二角度的正切表达式;根据第一角度的正切表达式和第二角度的正切表达式计算沟道的三维关键尺寸。本发明中,实现了高深宽比的三维关键尺寸的快速在线无损测量,其不仅能够节约时间和成本,缩短研发周期,而且能够满足大规模的生产要求。
搜索关键词: 基于 扫描 电子显微镜 三维 关键 尺寸 测量方法
【主权项】:
1.一种基于扫描电子显微镜的三维关键尺寸测量方法,其特征在于,包括:/n将电子束沿竖直方向倾斜第一角度入射沟道,通过扫描电子显微镜拍摄沟道图片得到第一图片,分析所述第一图片得到所述第一角度的正切表达式;/n将电子束沿竖直方向倾斜第二角度入射沟道,所述第二角度与所述第一角度不等,通过扫描电子显微镜拍摄沟道图片得到第二图片,分析所述第二图片得到所述第二角度的正切表达式;/n根据所述第一角度的正切表达式和所述第二角度的正切表达式计算所述沟道的三维关键尺寸;/n所述沟道的三维关键尺寸为预测量的沟道深度;/n所述分析所述第一图片得到所述第一角度的正切表达式,具体为:测量所述第一图片中电子束倾斜投影的侧壁宽度,根据测量的侧壁宽度及预测量的沟道深度对第一角度的正切进行表示得到第一角度的正切表达式;/n所述分析所述第二图片得到所述第二角度的正切表达式,具体为:测量所述第二图片中电子束倾斜投影的侧壁宽度,根据测量的侧壁宽度及预测量的沟道深度对第二角度的正切进行表示得到第二角度的正切表达式。/n
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