[发明专利]一种无导电颗粒电磁屏蔽膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201711083506.3 | 申请日： | 2017-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN107969100A | 公开（公告）日： | 2018-04-27 |
| 发明（设计）人： | 朱焰焰;孙诗良;郑杰;郭文勇 | 申请（专利权）人： | 天诺光电材料股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 济南日新专利代理事务所37224 | 代理人： | 刘亚宁 |
| 地址： | 250119 山东省济南*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明属于新材料技术领域，公开了一种无导电颗粒电磁屏蔽膜及其制备方法，该电磁屏蔽膜结构依次为载体膜、绝缘层、屏蔽层、遮盖层、粘结层、保护膜，所述的遮盖层表面分布大小不一的孔洞；所述的屏蔽层由平面金属和凸状金属组成，其中平面金属复合于绝缘层，凸状金属分布在遮盖层的孔洞中并且与平面金属相接；采用本发明方法制备的无导电颗粒电磁屏蔽膜具有厚度薄、屏蔽性效能高、接地电阻低、粘结性强、成本低等特点，能够满足电子产品功能集成化的同时，向更轻更薄发展的迫切需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 导电 颗粒 电磁 屏蔽 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种无导电颗粒电磁屏蔽膜，其特征在于，结构依次为载体膜、绝缘层、屏蔽层、遮盖层、粘结层、保护膜；所述的遮盖层表面分布大小不一的孔洞；所述的屏蔽层由平面金属和凸状金属组成，其中平面金属复合于绝缘层，凸状金属分布在遮盖层的孔洞中并且与平面金属相接；其中，载体膜厚度为25～150μm；绝缘层厚度为3～6μm；遮盖层厚度为0.1～1μm；粘结层厚度为1～5μm；保护膜厚度为50～150μm；平面金属层厚度为0.1～0.5μm；凸状金属高度为1～5μm；孔洞孔径为1～50μm。
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