[发明专利]一种新型光刻胶喷胶方法在审
| 申请号： | 201711078697.4 | 申请日： | 2017-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN109755344A | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 彭寿;马立云;潘锦功;殷新建;张东 | 申请（专利权）人： | 成都中建材光电材料有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18 |
| 代理公司： | 成都市集智汇华知识产权代理事务所(普通合伙) 51237 | 代理人： | 李华;温黎娟 |
| 地址： | 610000 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻胶布胶系统，包括记录模块，控制模块和处理模块，其特征在于，记录模块与控制模块相连，控制模块与处理模块相连，记录模块记录激光刻线轨迹的信息，并将上述的信息传递给控制模块，控制模块控制处理模块进行涂胶。该系统改进了光刻胶的布胶方式，不同于现有的大面积滚涂光刻胶、曝光、显影、除胶，光刻胶涂胶由滚涂改为喷头喷涂，直接将光刻胶准确地填充到激光刻线凹槽中。本发明改善了光刻胶布胶工艺，显著减少了原材料光刻胶、显影液及除胶剂的浪费，大大减轻了污水处理压力，降低了能源损耗和EHS风险。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶 控制模块 记录模块 处理模块 胶布 光刻 滚涂 涂胶 控制处理模块 喷头 激光刻线 记录激光 刻线轨迹 能源损耗 系统改进 信息传递 除胶剂 胶系统 显影液 布胶 除胶 喷胶 喷涂 显影 填充 污水处理 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶布胶系统，包括记录模块，控制模块和处理模块，其特征在于，记录模块与控制模块相连，控制模块与处理模块相连，记录模块记录激光刻线轨迹的信息，并将上述的信息传递给控制模块，控制模块控制处理模块进行涂胶。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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