[发明专利]一种新型光刻胶喷胶方法在审
| 申请号： | 201711078697.4 | 申请日： | 2017-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN109755344A | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 彭寿;马立云;潘锦功;殷新建;张东 | 申请（专利权）人： | 成都中建材光电材料有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18 |
| 代理公司： | 成都市集智汇华知识产权代理事务所(普通合伙) 51237 | 代理人： | 李华;温黎娟 |
| 地址： | 610000 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻胶 控制模块 记录模块 处理模块 胶布 光刻 滚涂 涂胶 控制处理模块 喷头 激光刻线 记录激光 刻线轨迹 能源损耗 系统改进 信息传递 除胶剂 胶系统 显影液 布胶 除胶 喷胶 喷涂 显影 填充 污水处理 曝光 | ||
1.一种光刻胶布胶系统，包括记录模块，控制模块和处理模块，其特征在于，记录模块与控制模块相连，控制模块与处理模块相连，记录模块记录激光刻线轨迹的信息，并将上述的信息传递给控制模块，控制模块控制处理模块进行涂胶。
2.如权利要求1所述的光刻胶布胶系统，其特征在于，还包括修正模块，所述修正模块与所述处理模块相连，记录处理模块的信息，并将上述的信息反馈给控制模块，控制模块根据反馈信息对处理模块的偏差进行修正。
3.如权利要求1所述的光刻胶布胶系统，其特征在于，所述记录模块包括CCD1。
4.如权利要求1所述的光刻胶布胶系统，其特征在于，所述修正模块包括CCD2。
5.如权利要求1所述的光刻胶布胶系统，其特征在于，所述处理模块为光刻胶喷头。
6.如权利要求5所述的光刻胶布胶系统，其特征在于，所述喷头可以替换为医用针头。
7.如权利要求6所述的光刻胶布胶系统，其特征在于，所述喷头的直径与激光刻线凹槽的直径相同或相近。
8.一种光刻胶布胶方法，包括记录模块，控制模块和处理模块和修正模块，其特征在于，记录模块与控制模块相连，控制模块与处理模块相连，处理模块与修正模块相连，记录模块记录激光刻线轨迹的信息，并将上述的信息传递给控制模块，控制模块控制处理模块进行涂胶，修正模块，记录处理模块的信息，并将上述的信息反馈给控制模块，控制模块根据反馈信息对处理模块的偏差进行修正。
9.如权利要求8所述的光刻胶布胶方法，其特征在于，所述记录模块包括CCD1。
10.如权利要求8所述的光刻胶布胶方法，其特征在于，所述修正模块包括CCD2。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
