[发明专利]抛光液及其制备方法有效
| 申请号： | 201711062417.0 | 申请日： | 2017-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN107629701B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 李俊锋;李青;徐兴军;张广涛;闫冬成;王丽红;郑权 | 申请（专利权）人： | 东旭光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 严政;刘依云 |
| 地址： | 050035 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及玻璃制造领域，具体涉及一种抛光液及其制备方法，其中所述抛光液含有磨料、氧化剂、分散剂和pH调节剂，以磨料、氧化剂和分散剂的总量为基准，磨料含量为55‑80重量％，氧化剂含量为2‑20重量％，分散剂含量为6‑25重量％，所述制备方法包括将磨料和分散剂溶解于水中，搅拌均匀后加入氧化剂，搅拌均匀后加入pH调节剂，本发明还涉及玻璃抛光方法，包括使用本发明所述抛光液对玻璃进行抛光处理。本发明所制抛光液，溶液分散稳定性、抛光效率高，玻璃抛光后表面粗糙度低、玻璃表面平整，而且抛光液通过高强度机械摩擦，增强了各种复合组分的密切接触与相互作用，充分发挥各组分协同增效功能，使抛光液性能更优良。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种抛光液，其特征在于，所述抛光液含有磨料、氧化剂、分散剂和pH调节剂，以磨料、氧化剂和分散剂的总量为基准，所述磨料的含量为55‑80重量％，所述氧化剂的含量为2‑20重量％，所述分散剂的含量为6‑25重量％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东旭光电科技股份有限公司，未经东旭光电科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711062417.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：试压装置
- 下一篇：一种民用燃气压力与泄漏检测水镜装置
