[发明专利]抛光液及其制备方法

说明书

本发明涉及玻璃制造领域，具体涉及一种抛光液及其制备方法，其中所述抛光液含有磨料、氧化剂、分散剂和pH调节剂，以磨料、氧化剂和分散剂的总量为基准，磨料含量为55‑80重量％，氧化剂含量为2‑20重量％，分散剂含量为6‑25重量％，所述制备方法包括将磨料和分散剂溶解于水中，搅拌均匀后加入氧化剂，搅拌均匀后加入pH调节剂，本发明还涉及玻璃抛光方法，包括使用本发明所述抛光液对玻璃进行抛光处理。本发明所制抛光液，溶液分散稳定性、抛光效率高，玻璃抛光后表面粗糙度低、玻璃表面平整，而且抛光液通过高强度机械摩擦，增强了各种复合组分的密切接触与相互作用，充分发挥各组分协同增效功能，使抛光液性能更优良。

技术领域

本发明涉及玻璃制造领域，具体涉及一种抛光液及其制备方法。

背景技术

光学玻璃对玻璃表面光洁度要求很高，后加工过程中，抛光过程决定了成板玻璃的品质，目前市面上的抛光液在使用过程中会出现凝结、抛光效率低、玻璃表面质量差等问题，并且现有的抛光液的悬浮性和分散性较差。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术中存在的抛光效率低、玻璃表面质量差以及现有的抛光液的悬浮性和分散性较差的问题，提供了一种抛光液及其制备方法。

为了实现上述目的，本发明一方面提供了一种抛光液，其中，所述抛光液含有磨料、氧化剂、分散剂和pH调节剂，以磨料、氧化剂和分散剂的总量为基准，所述磨料的含量为55-80重量％，所述氧化剂的含量为2-20重量％，所述分散剂的含量为6-25重量％。。

本发明另一方面提供了一种上述抛光液的制备方法，其中，所述方法包括先将磨料和分散剂溶解于水中，搅拌均匀后加入氧化剂，搅拌均匀后加入pH调节剂。

本发明第三方面提供了一种玻璃抛光方法，其中，所述方法包括使用本发明所述的抛光液对玻璃进行抛光处理。

本发明所述抛光液呈碱性，有利于玻璃的抛光；在抛光液中加入氧化剂，能够在短时间内在玻璃表面形成一层结合力弱的氧化膜，有利于机械去除，提高了玻璃去除率，节省抛光时间；加入分散剂，保证溶液具有足够的分散稳定性，抛光面不易划伤，不损伤抛光机。与现有的抛光液相比，本发明所制抛光液，溶液分散稳定性、抛光效率高，玻璃抛光后表面粗糙度低、玻璃表面平整。此外，本发明所述的抛光液通过高强度机械摩擦，增强各种复合组分的密切接触与相互作用，充分发挥各种复合组分的协同增效功能，使得抛光液性能更为优良。

具体实施方式

在本文中所披露的范围的端点和任何值都不限于该精确的范围或值，这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围来说，各个范围的端点值之间、各个范围的端点值和单独的点值之间，以及单独的点值之间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围，这些数值范围应被视为在本文中具体公开。

本发明一方面提供了一种抛光液，其中，所述抛光液含有磨料、氧化剂、分散剂和pH调节剂，以磨料、氧化剂和分散剂的总量为基准，所述磨料的含量为55-80重量％，所述氧化剂的含量为2-20重量％，所述分散剂的含量为6-25重量％。

优选地，以磨料、氧化剂和分散剂的总量为基准，所述抛光液含有56-70重量％的磨料、5-15重量％的氧化剂和10-20重量％的分散剂。

在本发明中，优选地，所述磨料为稀土氧化物，进一步优选地，所述磨料为CeO₂和/或La₂O₃。本发明的氧化铈和氧化镧磨料硬度适中，粒度细且粒度分布均匀，适用于精密仪器的抛光。

在本发明中，CeO₂和La₂O₃的重量比可以为2-5:0.5-2，优选为1.5-4:0.55-1.8。本发明中的CeO₂和La₂O₃磨料混合形成的混合磨料，更有利于提高被抛光材料的去除率和平整度。