[发明专利]电阻式存储器及其制造方法与化学机械研磨制程有效
| 申请号： | 201711025221.4 | 申请日： | 2017-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN109728158B | 公开（公告）日： | 2023-07-07 |
| 发明（设计）人： | 林宥任;陈义中;赖政荏 | 申请（专利权）人： | 华邦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H10N70/20 | 分类号： | H10N70/20;H10B63/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马雯雯;臧建明 |
| 地址： | 中国台湾台*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种电阻式存储器及其制造方法与化学机械研磨制程。所述电阻式存储器包括第一电极、可变电阻层以及第二电极。所述第一电极配置于基底上。所述可变电阻层配置于所述第一电极上。所述第二电极配置于所述可变电阻层上。所述第一电极包括依序配置于所述基底上的第一钛层、氧化钛层以及导电层。本发明电阻式存储器可具有良好的电性表现。 | ||
| 搜索关键词： | 电阻 存储器 及其 制造 方法 化学 机械 研磨 | ||
【主权项】：
1.一种电阻式存储器，包括：第一电极，配置于基底上；可变电阻层，配置于所述第一电极上；以及第二电极，配置于所述可变电阻层上，其中所述第一电极包括依序配置于所述基底上的第一钛层、氧化钛层以及导电层。
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