[发明专利]一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂及清洗工艺在审
| 申请号： | 201711011574.9 | 申请日： | 2017-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN108373950A | 公开（公告）日： | 2018-08-07 |
| 发明（设计）人： | 张本汉;张元正;许永章 | 申请（专利权）人： | 信丰正天伟电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/72 | 分类号： | C11D1/72;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/60;C11D11/00;B08B3/08 |
| 代理公司： | 苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司 32261 | 代理人： | 赵丽丽 |
| 地址： | 341600 江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明涉及清洗剂、清洁剂领域，提供一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂及其清洗工艺。其由含量为以下质量百分数的组分组成：硫酸：10～20％；乙酸：10～30％；增溶剂：1～5％；表面活性剂：0.5～3％；水：余量。本发明可高效乳化其干膜残留物,从而使酸性体系较快的与残留于干膜残渣内钙镁离子结晶物进行反应.故而温度下降,清洗时间缩短,提高干膜残留物溶解率；其清洗效果明显优于常规清洗剂的清洗方式,且可高效去除槽体残留物,保证PCB制程正常生产,且可节约一定能耗以及提高产能,具有一定之经济及环保意义。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗剂 干膜 清洗工艺 显影槽 清洗 清洁剂 乙酸 表面活性剂 常规清洗剂 质量百分数 钙镁离子 干膜残渣 环保意义 清洗效果 时间缩短 酸性体系 结晶物 溶解率 增溶剂 槽体 产能 去除 乳化 制程 硫酸 能耗 残留 节约 保证 生产 | ||
【主权项】：
1.一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂，其特征在于，其由含量为以下质量百分数的组分组成：硫酸：10～20％；乙酸：10～30％；增溶剂：1～5％；表面活性剂：0.5～3％；水：余量。以上组分的质量百分数之和为100％。
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