[发明专利]一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂及清洗工艺在审
| 申请号： | 201711011574.9 | 申请日： | 2017-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN108373950A | 公开（公告）日： | 2018-08-07 |
| 发明（设计）人： | 张本汉;张元正;许永章 | 申请（专利权）人： | 信丰正天伟电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/72 | 分类号： | C11D1/72;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/60;C11D11/00;B08B3/08 |
| 代理公司： | 苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司 32261 | 代理人： | 赵丽丽 |
| 地址： | 341600 江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗剂 干膜 清洗工艺 显影槽 清洗 清洁剂 乙酸 表面活性剂 常规清洗剂 质量百分数 钙镁离子 干膜残渣 环保意义 清洗效果 时间缩短 酸性体系 结晶物 溶解率 增溶剂 槽体 产能 去除 乳化 制程 硫酸 能耗 残留 节约 保证 生产 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂，其特征在于，其由含量为以下质量百分数的组分组成：
硫酸：10～20％；
乙酸：10～30％；
增溶剂：1～5％；
表面活性剂：0.5～3％；
水：余量。
以上组分的质量百分数之和为100％。
2.根据权利要求1所述的用于PCB干膜显影槽的清洗剂，其特征在于：其由含量为以下质量百分数的组分组成：
硫酸：13～17％；
乙酸：15～25％；
增溶剂：2～4％；
表面活性剂：1.5～2％；
水：余量。
3.根据权利要求1或2所述的用于PCB干膜显影槽的清洗剂，其特征在于：所述增溶剂为乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚中的一种或一种以上。
4.根据权利要求1或2所述的用于PCB干膜显影槽的清洗剂，其特征在于：所述表面活性剂为水溶性聚醚。
5.根据权利要求1或2所述的一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂及清洗工艺，其特征在于，步骤为：
(1)在常温下，用清水清洗显影槽三遍；
(2)往槽体内注水调配清洗剂，将硫酸、乙酸依次加入水中搅拌混合溶解均匀后，再加入增溶剂、表面活性剂，搅拌均匀即可；
(3)根据显影槽的槽体残留物再次注水调配清洗剂浓度，一般为21％～50％；
(4)采用持续搅拌或循环喷淋方式清洗，清洗时间为1～1.5h；
(5)排出槽体内污水，再用清水冲洗三遍，即清洗完成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信丰正天伟电子科技有限公司，未经信丰正天伟电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711011574.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种含有茶粕的清洗剂
- 下一篇：中性除油剂
