[发明专利]一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂及清洗工艺

说明书

本发明涉及清洗剂、清洁剂领域，提供一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂及其清洗工艺。其由含量为以下质量百分数的组分组成：硫酸：10～20％；乙酸：10～30％；增溶剂：1～5％；表面活性剂：0.5～3％；水：余量。本发明可高效乳化其干膜残留物,从而使酸性体系较快的与残留于干膜残渣内钙镁离子结晶物进行反应.故而温度下降,清洗时间缩短,提高干膜残留物溶解率；其清洗效果明显优于常规清洗剂的清洗方式,且可高效去除槽体残留物,保证PCB制程正常生产,且可节约一定能耗以及提高产能,具有一定之经济及环保意义。

技术领域

本发明涉及清洗剂、清洁剂领域，尤其涉及一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂。

背景技术

目前，PCB作为电子器件器件的基板，其品质直接决定着整个电路的性能。而在PCB的制造过程中，干膜制程尤为重要，在干膜制程中随着显影槽的使用时长推移不断有干膜或湿膜的残留物粘附在滚轮或是槽体上，因此需要对干膜显影槽进行清洗，常规的清洁剂，一般是直接使用强氧化钠进行处理，实际使用中发现，这类碱性清洗剂，不但在清洗时需要进行加温处理以增强对干膜残留物的溶解度，而且清洗时间较长、清洗效果不够好。

发明内容

针对上述问题，本发明所要解决的技术问题是提供一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂，清洗温度要求较低、清洗时间短同时清洗效果好。

采用技术方案如下：

一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂，其由含量为以下质量百分数的组分组成：

硫酸：10～20％；

乙酸：10～30％；

增溶剂：1～5％；

表面活性剂：0.5～3％；

水：余量。

以上组分的质量百分数之和为100％；

所述物质都以纯物质的质量计算。

优选的，其由含量为以下质量百分数的组分组成：

硫酸：13～17％；

乙酸：15～25％；

增溶剂：2～4％；

表面活性剂：1.5～2％；

水：余量。

以上组分的质量百分数之和为100％。

具体的，

所述增溶剂优选乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚中的一种或一种以上,用于去除干膜参渣残中的有机残留物；乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚均可溶于水，且对干膜残渣中的有机残留物具有一定的溶解性。

所述表面活性剂优选水溶性聚醚，能与硫酸、乙酸完全相溶，由于其有逆溶性的特点，针对表面活性物质具有协同效应，有效降低药液表面张力以及清洗作用。

一种用于PCB干膜显影槽的清洗剂的清洗工艺，其步骤为：

(1)在常温下，用清水清洗显影槽三遍；

(2)往槽体内注水调配清洗剂，将硫酸、乙酸依次加入水中搅拌混合溶解均匀后，再加入增溶剂、表面活性剂，搅拌均匀即可；

(3)根据显影槽的槽体残留物再次注水调配清洗剂浓度，一般为21％～50％；

(4)采用持续搅拌或循环喷淋方式清洗，清洗时间为1～1.5h；

(5)排出槽体内污水，再用清水冲洗三遍，即清洗完成。