[发明专利]一种具有三路保护的晶闸管浪涌抑制器及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201711005229.4 申请日: 2017-10-25
公开(公告)号: CN107658296A 公开(公告)日: 2018-02-02
发明(设计)人: 张鹏 申请(专利权)人: 启东吉莱电子有限公司
主分类号: H01L27/08 分类号: H01L27/08;H01L29/74;H01L21/8222
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司32243 代理人: 卢海洋
地址: 226200 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种具有三路保护的晶闸管浪涌抑制器,包括N型硅片,其制作方法主要包括N型衬底准备——氧化层生长——P+隔离区光刻,预扩散再分布——P‑BASE区中P+区光刻,扩散——背面N+光刻,预扩散再分布——P‑BASE区和背面P+区光刻,扩散——P‑BASE区中N+区光刻,扩散——表面BPSG钝化——接触孔光刻、刻蚀——金属淀积、光刻、刻蚀——合金、退火等。本发明通过体内电场的优化,设计多路表面并联半导体保护器,集成了多个晶闸管浪涌抑制器的功率所形成的保护电路,具有多通道过压保护功能,芯片在工作中,电流横向流动,衬底功率为零。该工艺降低了封装工艺的难度,从三颗单独的芯片整合成单颗集成度高的芯片。
搜索关键词: 一种 具有 保护 晶闸管 浪涌 抑制器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种具有三路保护的晶闸管浪涌抑制器,包括N型硅片(1),其特征在于:所述N型硅片(1)上分布有隔离区P+(2),所述N型硅片(1)表面生长有氧化层(8),所述N型硅片(1)正面有三个区域光刻有P‑BASE区(3),所述P‑BASE区(3)光刻有P+区(4)和N+区(5),所述N型硅片(1)背面有两个区域光刻有N+区(6)和P+区(7),在所述氧化层(8)间隙刻蚀有电极(9),所述N型硅片(1)背面刻蚀有金属层(10)。
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