[发明专利]一种具有电流阻挡层的LED外延结构的制作方法在审
申请号: | 201711000090.4 | 申请日: | 2017-10-24 |
公开(公告)号: | CN107731970A | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 马昆旺;吴质朴;何畏;陈强 | 申请(专利权)人: | 江门市奥伦德光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/14 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 | 代理人: | 梁嘉琦 |
地址: | 529000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有电流阻挡层的LED外延结构的制作方法,包括以下步骤首先,采用MOCVD技术,在衬底上依次生长未掺杂的GaN缓冲层、N型GaN层和有源层;然后,在有源层上生长电流阻挡层,注入Mg源;最后,在电流阻挡层上依次生长P型低温GaN层和P型高温GaN层。利用本发明的方法可制造出具有特殊电流阻挡层的LED外延结构,能够有效避免电子溢出至P型低温GaN层和P型高温GaN层,同时有利于空穴扩展,能够显著提高空穴浓度以及大幅提升晶体亮度。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 电流 阻挡 led 外延 结构 制作方法 | ||
【主权项】:
一种具有电流阻挡层的LED外延结构的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:A、采用MOCVD技术,在衬底上依次生长未掺杂的GaN缓冲层、N型GaN层和有源层;B、在所述有源层上生长电流阻挡层,注入Mg源;C、在所述电流阻挡层上依次生长P型低温GaN层和P型高温GaN层。
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