[发明专利]掩模板及其制造方法、显示面板、触控板有效
| 申请号： | 201710975409.9 | 申请日： | 2017-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN107589631B | 公开（公告）日： | 2020-12-01 |
| 发明（设计）人： | 廖力勍;李红敏;陶健 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68;G03F7/20;G02F1/1333;G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种掩模板及其制造方法、显示面板、触控板。该掩模板的制造方法包括：提供基底；在所述基底上形成光阻材料层；利用扫描束对所述光阻材料层进行至少两次扫描曝光，其中，每次扫描曝光沿着平行于所述基底所在面的第一方向进行，且每次扫描曝光中所述扫描束扫描具有预设宽度的扫描区域中的所述光阻材料层，至少一对相邻两个所述扫描区域是部分交叠的，且部分交叠的区域位于所述掩模板的第一区域中。上述制备方法获得的掩模板可以提高利用其制造的装置的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 及其 制造 方法 显示 面板 触控板 | ||
【主权项】：
一种掩模板的制造方法，包括：提供基底；在所述基底上形成光阻材料层；以及利用扫描束对所述光阻材料层进行至少两次扫描曝光，其中，每次扫描曝光沿着平行于所述基底所在面的第一方向进行，且每次扫描曝光中所述扫描束扫描具有预设宽度的扫描区域中的所述光阻材料层，至少一对相邻两个所述扫描区域是部分交叠的，且部分交叠的区域位于所述掩模板的第一区域中。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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