[发明专利]掩模板及其制造方法、显示面板、触控板

说明书

一种掩模板及其制造方法、显示面板、触控板。该掩模板的制造方法包括：提供基底；在所述基底上形成光阻材料层；利用扫描束对所述光阻材料层进行至少两次扫描曝光，其中，每次扫描曝光沿着平行于所述基底所在面的第一方向进行，且每次扫描曝光中所述扫描束扫描具有预设宽度的扫描区域中的所述光阻材料层，至少一对相邻两个所述扫描区域是部分交叠的，且部分交叠的区域位于所述掩模板的第一区域中。上述制备方法获得的掩模板可以提高利用其制造的装置的良率。

技术领域

本公开至少一个实施例涉及一种掩模板及其制造方法、显示面板、触控板。

背景技术

在当前高精度的电子显示产品的生产工艺过程中，需要进行多次曝光工艺。曝光工艺中需要使用掩模板，借助掩模板上的图案以在产品中形成相应形状的图形。

但是，受限于当前的掩模板制造工艺，在制备掩模图案的过程中会存在部分图形被重复曝光，而重复曝光部分的图形的关键尺寸(Critical Dimension，CD)存在偏差，采用具有CD偏差的掩模板制备电子产品时，例如，显示面板时，会使得整个电子产品出现功能性不良，例如显示面板发生显示不良等。

发明内容

本公开至少一个实施例提供一种掩模板的制造方法，包括：提供基底；在所述基底上形成光阻材料层；以及利用扫描束对所述光阻材料层进行至少两次扫描曝光，其中，每次扫描曝光沿着平行于所述基底所在面的第一方向进行，且每次扫描曝光中所述扫描束扫描具有预设宽度的扫描区域中的所述光阻材料层，至少一对相邻两个所述扫描区域是部分交叠的，且部分交叠的区域位于所述掩模板的第一区域中。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，在将利用该掩模板形成的装置的结构层的过程中，所述第一区域在所述装置所在面的投影与所述装置的非有效区域重合，所述预设宽度为所述扫描束在垂直于所述第一方向的第二方向上的宽度。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，所述装置包括有效区域，利用所述掩模板形成所述装置时，所述掩模板的缩影倍率为X：1，并且在所述第二方向上，所述有效区域的宽度为W1，所述非有效区域的宽度为W2，每个所述有效区域两侧分别设置有所述非有效区域，所述预设宽度为L，所述预设宽度满足：

X*(W1+W2)≤L≤X*(N*(W1+W2)+2*W2)

其中，N为正整数，X0。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，所述部分交叠的区域的宽度为L1，所述部分交叠的区域的宽度满足：0≤L1≤2X*W2，所述部分交叠的区域的宽度为所述第二方向上的宽度。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，在所述基底上形成所述光阻材料层之前，还包括：在所述基底上形成遮光材料层；所述制造方法，还包括：对所述光阻材料层进行显影，以去除部分所述光阻材料层；刻蚀所述遮光材料层并去除所述遮光材料层的未覆盖有所述光阻材料层的部分；以及去除所述光阻材料层，以形成掩模图案。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，在每个扫描区域中，所述掩模图案形成在所述部分交叠的区域之外。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，其中，在每个扫描区域中，所述部分交叠的区域中形成有部分所述掩模图案。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，所述装置为显示面板，所述显示面板包括多个像素单元，每个所述像素单元包括显示区和非显示区，所述非有效区域为所述非显示区，所述有效区域为所述显示区。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板的制造方法中，所述装置为触控板，所述触控板包括触控功能区和非触控功能区，所述非有效区域为所述非触控功能区，所述有效区域为触控功能区。