[发明专利]掩模板及其制造方法、显示面板、触控板

权利要求书

1.一种掩模板的制造方法，包括：

提供基底；

在所述基底上形成光阻材料层；以及

利用扫描束对所述光阻材料层进行至少两次扫描曝光，

其中，每次扫描曝光沿着平行于所述基底所在面的第一方向进行，且每次扫描曝光中所述扫描束扫描具有预设宽度的扫描区域中的所述光阻材料层，至少一对相邻两个所述扫描区域是部分交叠的，且部分交叠的区域位于所述掩模板的第一区域中；

在利用所述掩模板形成的装置的结构层的过程中，所述第一区域在所述装置所在面的投影与所述装置的非有效区域重合，所述预设宽度为所述扫描束在垂直于所述第一方向的第二方向上的宽度，

所述装置包括有效区域，利用所述掩模板形成所述装置时，所述掩模板的缩影倍率为X：1，并且在所述第二方向上，

所述有效区域的宽度为W1，所述非有效区域的宽度为W2，每个所述有效区域两侧分别设置有所述非有效区域，所述预设宽度为L，所述预设宽度满足：

X*(W1+W2)≤L≤X*(N*(W1+W2)+2*W2)

其中，N为正整数，X0，

所述部分交叠的区域的宽度为L1，所述部分交叠的区域的宽度满足：0≤L1≤2X*W2，所述部分交叠的区域的宽度为所述第二方向上的宽度。

2.根据权利要求1所述的掩模板的制造方法，在所述基底上形成所述光阻材料层之前，还包括：

在所述基底上形成遮光材料层；

所述制造方法，还包括：

对所述光阻材料层进行显影，以去除部分所述光阻材料层；

刻蚀所述遮光材料层并去除所述遮光材料层的未覆盖有所述光阻材料层的部分；以及

去除所述光阻材料层，以形成掩模图案。

3.根据权利要求2所述的掩模板的制造方法，其中，

在每个扫描区域中，所述掩模图案形成在所述部分交叠的区域之外。

4.根据权利要求2所述的掩模板的制造方法，其中，

在每个扫描区域中，所述部分交叠的区域中形成有部分所述掩模图案。

5.根据权利要求2所述的掩模板的制造方法，其中，

所述装置为显示面板，所述显示面板包括多个像素单元，每个所述像素单元包括显示区和非显示区，所述非有效区域为所述非显示区，所述有效区域为所述显示区。

6.根据权利要求2所述的掩模板的制造方法，其中，

所述装置为触控板，所述触控板包括触控功能区和非触控功能区，所述非有效区域为所述非触控功能区，所述有效区域为触控功能区。

7.根据权利要求5所述的掩模板的制造方法，其中，

在利用所述掩模板形成所述显示面板中的所述结构层时，所述掩模图案在所述显示面板所在面上的投影位于所述显示区或者部分位于所述非显示区中。

8.根据权利要求6所述的掩模板的制造方法，其中，

在利用所述掩模板形成所述触控板时，所述掩模图案在所述触控板所在面上的投影位于所述触控功能区中或者部分位于非触控功能区中。

9.根据权利要求7所述的掩模板的制造方法，其中，

所述结构层包括有源层、栅绝缘层、栅电极、层间绝缘层、源漏电极层、钝化层、栅线和数据线中的一种或多种。

10.一种掩模板，所述掩模板根据权利要求1-9中任一项所述的制造方法制备。

11.一种显示面板，所述显示面板利用权利要求10所述的掩模板制造。

12.一种触控板，所述触控板利用权利要求10所述的掩模板制造。