[发明专利]一种沉积基体及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710958144.1 申请日: 2017-10-16
公开(公告)号: CN107706354A 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 邓伟;朱文华;周旭峰;刘兆平 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: H01M4/133 分类号: H01M4/133;H01M4/1393
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 张雪娇,赵青朵
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种沉积基体,包括碳材料薄膜;所述碳材料薄膜表面设置有纳米褶皱。与现有技术相比,本发明在碳材料薄膜表面设置纳米褶皱,通过调控基体表面的纳米结构状态,将金属锂在二维面的沉积行为转变为在三维纳米褶皱上沉积,通过大的比表面降低单位面积上的电流,同时纳米褶皱也可作为金属锂沉积的位点,引导均匀的金属锂沉积;并且使二维平整的碳材料薄膜具有三维的、更大的比表面结合位点,也可引导高度可逆的金属锂沉积和溶解。
搜索关键词: 一种 沉积 基体 及其 制备 方法
【主权项】:
一种沉积基体,包括:碳材料薄膜;所述碳材料薄膜表面构筑有纳米褶皱。
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