[发明专利]一种掩模板挠度检测装置、调节装置及检测和调节方法有效
| 申请号： | 201710860427.2 | 申请日： | 2017-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN107653434B | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | 杨忠英;吴建鹏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种掩模板挠度检测装置、调节装置及检测和调节方法，以降低掩模板在蒸镀显示基板的时候由于掩模板下垂从而产生蒸镀阴影的情况，提高显示面板的良品率并提高显示效率。该掩模板挠度检测装置包括：光发射器、光接收器、光路调整机构和两个光路构件，两个光路构件紧贴设置于掩模板下侧表面的两端，光路构件内部具有多个反射面，且两个光路构件在掩模板下侧表面处形成有光路通道，当掩模板下垂产生挠度则部分或完全遮挡光路通道；光发生器用于向光路通道中发射检测光线，光接收器用于接收检测光线；光路调整机构安装于两个光路构件处，用于调整光路通道中的检测光线不被遮挡。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模板 挠度 检测 装置 调节 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩模板挠度检测装置，用于检测掩模板对玻璃基板进行蒸镀时的下垂挠度，其特征在于，包括：两个光路构件，所述两个光路构件紧贴设置于掩模板下侧表面的两端，所述两个光路构件内部分别具有多个反射面，且所述两个光路构件在掩模板下侧表面处形成有光路通道，当掩模板下垂产生挠度则部分或完全遮挡所述光路通道；光发射器和光接收器，所述光发生器与一光路构件联通，所述光接收器与另一光路构件联通，所述光发生器用于向光路通道中发射检测光线，所述光接收器用于接收所述检测光线；光路调整机构，所述光路调整机构安装于两个光路构件处，用于调整所述光路通道中的检测光线不被遮挡，当掩模板产生下垂挠度时，掩模板遮挡所述光路通道中的检测光线，调节所述光路调整机构的位置，使得所述光路通道中的检测光线处于不被遮挡的临界位置；根据调节前后所述光路调整机构的位置，确定所述掩模板下垂的挠度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710860427.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
