[发明专利]一种掩模板挠度检测装置、调节装置及检测和调节方法

说明书

本发明公开了一种掩模板挠度检测装置、调节装置及检测和调节方法，以降低掩模板在蒸镀显示基板的时候由于掩模板下垂从而产生蒸镀阴影的情况，提高显示面板的良品率并提高显示效率。该掩模板挠度检测装置包括：光发射器、光接收器、光路调整机构和两个光路构件，两个光路构件紧贴设置于掩模板下侧表面的两端，光路构件内部具有多个反射面，且两个光路构件在掩模板下侧表面处形成有光路通道，当掩模板下垂产生挠度则部分或完全遮挡光路通道；光发生器用于向光路通道中发射检测光线，光接收器用于接收检测光线；光路调整机构安装于两个光路构件处，用于调整光路通道中的检测光线不被遮挡。

技术领域

本发明涉及显示面板蒸镀技术领域，特别是涉及一种掩模板挠度检测装置、调节装置及检测和调节方法。

背景技术

在OLED(Organic Light Emission Display，有机电致发光二极管)制作技术中，采用掩模板进行真空蒸镀是关键工序，掩模板蒸镀的效果直接影响着生产制作成本和产品质量。目前较成熟的技术是采用真空蒸镀技术，在OLED蒸镀过程中，有机材料会淀积在位于蒸镀源上方的基板上，形成特有的图案，在基板下方紧贴有掩膜版，掩膜版上留有预先设计排版好的开口，最终有机材料会通过掩模板上的开口区域，淀积到玻璃基板上面。

随着玻璃基板尺寸的扩大，要求着金属掩模板装置的尺寸也逐渐扩大，而金属掩模板一般都很薄，在蒸镀过程中掩模板中部的下垂弯曲挠度无法控制，并且在蒸镀过程中掩模板受热膨胀，其下垂弯曲挠度会变得更大，使得掩模板与玻璃基板之间存在间隙，该间隙容易混入蒸镀材料产生阴影，影响蒸镀品质最终影响显示面板的显示效果，反应在OLED产品中为混色不良。

现有的蒸镀机内掩模板上方都会有磁隔板，用来对抗金属掩模板因重力引起的下垂，但是蒸镀过程中无法判断其下垂弯曲挠度的大小，所以每次蒸镀只能凭借经验值来确定所用磁隔板吸附力的大小，并不能精确调节磁隔板的磁力，这样蒸镀出来的产品很有可能因为对磁力的调节不当而造成混色不良，尤其是新产品的开发并没有确切的经验值可供参考，最终的蒸镀效果更差。

发明内容

本发明提供了一种掩模板挠度检测装置、调节装置及检测和调节方法，以降低掩模板在蒸镀显示基板的时候由于掩模板下垂从而产生蒸镀阴影的情况，提高显示面板的良品率并提高显示效率。

本发明实施例提供的掩模板挠度检测装置，用于检测掩模板对玻璃基板进行蒸镀时的下垂挠度，包括：两个光路构件，所述两个光路构件紧贴设置于掩模板下侧表面的两端，所述光路构件内部具有多个反射面，且所述两个光路构件在掩模板下侧表面处形成有光路通道，当掩模板下垂产生挠度则部分或完全遮挡所述光路通道；光发射器和光接收器，所述光发生器与一光路构件联通，所述光接收器与另一光路构件联通，所述光发生器用于向光路通道中发射检测光线，所述光接收器用于接收所述检测光线；光路调整机构，所述光路调整机构安装于两个光路构件处，用于调整所述光路通道中的检测光线不被遮挡，当掩模板产生下垂挠度时，掩模板遮挡所述光路通道中的检测光线，调节所述光路调整机构的位置，使得所述光路通道中的检测光线处于不被遮挡的临界位置；根据调节前后所述光路调整机构的位置，确定所述掩模板下垂的挠度。

本发明的技术方案中，通过本发明实施例提供的掩模板挠度检测装置，可检测出掩模板在蒸镀过程中会下垂产生弯曲挠度，便于精确调节磁隔板的磁力以降低掩膜板的下垂挠度，从而降低掩模板在蒸镀显示基板的时候产生阴影的情况，提高显示面板的良品率并提高显示效率。

优选的，所述光发射器为激光发生器，所述光接收器为激光接收器。

可选的，所述光路调整机构为平移调整机构，用于调整与所述光路构件连通的光接收器的位置，使得所述光路通道中的检测光线不被遮挡。

可选的，所述光路调整机构为角度调整机构，用于调整与所述光路构件内部对应反射面的角度变化量，使得所述光路通道中的检测光线不被遮挡。