[发明专利]一种掩模板挠度检测装置、调节装置及检测和调节方法

权利要求书

1.一种掩模板挠度检测装置，用于检测掩模板对玻璃基板进行蒸镀时的下垂挠度，其特征在于，包括：

两个光路构件，所述两个光路构件紧贴设置于掩模板下侧表面的两端，所述两个光路构件内部分别具有多个反射面，且所述两个光路构件在掩模板下侧表面处形成有光路通道，当掩模板下垂产生挠度则部分或完全遮挡所述光路通道；

光发射器和光接收器，所述光发生器与一光路构件联通，所述光接收器与另一光路构件联通，所述光发生器用于向光路通道中发射检测光线，所述光接收器用于接收所述检测光线；

光路调整机构，所述光路调整机构安装于两个光路构件处，用于调整所述光路通道中的检测光线不被遮挡，当掩模板产生下垂挠度时，掩模板遮挡所述光路通道中的检测光线，调节所述光路调整机构的位置，使得所述光路通道中的检测光线处于不被遮挡的临界位置；根据调节前后所述光路调整机构的位置，确定所述掩模板下垂的挠度。

2.根据权利要求1所述的掩模板挠度检测装置，其特征在于，所述光发射器为激光发生器，所述光接收器为激光接收器。

3.根据权利要求2所述的掩模板挠度检测装置，其特征在于，所述光路调整机构为平移调整机构，用于调整与所述光路构件连通的光接收器的位置，使得所述光路通道中的检测光线不被遮挡。

4.根据权利要求2所述的掩模板挠度检测装置，其特征在于，所述光路调整机构为角度调整机构，用于调整与所述两个光路构件内部对应反射面的角度变化量，使得所述光路通道中的检测光线不被遮挡。

5.一种掩模板挠度调节装置，其特征在于，包括磁隔板、磁场发生装置和如权利要求1～4中任一项所述的掩模板挠度检测装置，其中，所述掩模板为金属掩模板，所述磁场发生装置为所述磁隔板提供磁场，用于吸附金属掩模板并减少掩模板的下垂挠度。

6.根据权利要求5所述的掩模板挠度调节装置，其特征在于，还包括控制器，所述控制器分别与所述光路调整机构和磁场发生装置信号连接，用于根据调节前后所述光路调整机构的位置，确定所述掩模板下垂的挠度并控制磁场发生装置的磁场强度，以吸附金属掩模板并减少掩模板的下垂挠度。

7.一种掩模板挠度检测方法，应用于如权利要求1～4中任一项所述的掩模板挠度检测装置，其特征在于，包括：

将所述玻璃基板和所述掩模板进行对位；

开启所述光发射器和光接收器，检测光线在光发射器和光接收器之间形成光路通道；

当所述掩模板下垂弯曲产生挠度后；调节所述光路调整机构，使得光路通道中的检测光线处于不被掩模板遮挡的临界位置；

根据调节前后所述光路调整机构的位置，确定所述掩模板下垂的挠度。

8.根据权利要求7所述的掩模板挠度检测方法，其特征在于，所述根据调节前后所述光路调整机构的位置，确定所述掩模板下垂的挠度具体包括：

根据调节前后所述光接收器的位置，确定所述掩模板下垂的挠度，所述光接收器下移的距离即所述掩模板下垂的挠度；

或者，根据调节前后所述光路构件内部对应反射面的角度变化量，确定所述掩模板下垂的挠度。

9.一种掩模板挠度调节方法，应用于如权利要求5～6中任一项所述的掩模板挠度调节装置，其特征在于，包括：

将所述玻璃基板和所述掩模板进行对位；

开启所述光发射器和光接收器，检测光线在光发射器和光接收器之间形成光路通道；

当所述掩模板下垂弯曲产生挠度后；调节所述光路调整机构，使得光路通道中的检测光线处于不被掩模板遮挡的临界位置；

根据调节前后所述光路调整机构的位置，确定所述掩模板下垂的挠度；

根据确定所述挠度调整所述磁场发生装置的磁场，控制磁隔板调整对掩膜板的吸附力以降低掩膜板的下垂挠度。