[发明专利]磁控溅射沉积碳钢表面非晶钽涂层的方法在审
| 申请号： | 201710806711.1 | 申请日： | 2017-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN109468601A | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 李建亮;王俊;熊党生;李航 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 邹伟红;朱显国 |
| 地址： | 210094 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种碳钢表面非晶钽涂层的磁控溅射沉积方法，其步骤为：将样品进行砂纸机械打磨和抛光处理，并超声清洗；将样品固定在超高真空磁控溅射设备溅射平台上，将靶材放入磁控溅射腔室内，关闭溅射室，抽真空达到一定的本底真空度；采用直流磁控溅射方法制备非晶钽涂层，工艺参数为：靶基距80mm，工作气体溅射高纯氩气，工作气压0.2±0.02Pa，钽靶溅射功率40W~100W,溅射时间为1.5~2.5h。该沉积方法能提供一种未辅助加热基体、可控性好的非晶钽涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 钽涂层 非晶 溅射 磁控溅射沉积 磁控溅射 碳钢表面 砂纸 磁控溅射设备 本底真空度 采用直流 超高真空 超声清洗 辅助加热 高纯氩气 工作气体 工作气压 机械打磨 溅射功率 抛光处理 样品固定 靶基距 抽真空 溅射室 可控性 靶材 沉积 放入 制备 钽靶 室内 | ||
【主权项】：
1.磁控溅射沉积碳钢表面非晶钽涂层的方法，其特征在于，具体步骤如下：步骤1，将中碳钢基底进行砂纸机械打磨和抛光处理，并超声清洗；步骤2，将基底固定在超高真空磁控溅射设备溅射平台上，将钽靶材放入磁控溅射腔室内，关闭溅射室，抽真空达到一定的本底真空度；步骤3，采用直流磁控溅射方法制备非晶钽涂层。
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