[发明专利]一种曝光方法及图案化目标膜层的方法有效
| 申请号： | 201710801979.6 | 申请日： | 2017-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN107678246B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 金元仲;孟林 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;H01L21/306 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光方法，所述曝光方法包括以下步骤：(a)在目标膜层上形成一金属层；(b)在金属层上形成一光阻层；(c)对光阻层进行光束照射，金属层将穿过所述光阻层的光束进行反射，并返回至光阻层，以去除所述光阻层的部分光阻而形成图案化的光阻层，并在所述图案化的光阻层的图案位置处露出金属层；(d)去除所述图案化光阻层的图案位置处所露出的金属层，以形成图案化的金属层。本发明能够保证光阻层在曝光制程中曝光充分，从而提高高像素显示器件的生产良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 方法 图案 目标 | ||
【主权项】：
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