[发明专利]基板清洗装置及具备该基板清洗装置的基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201710779419.5 申请日: 2017-09-01
公开(公告)号: CN107799442B 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 村地弘美;吉田隆一;西山耕二;门间徹;寒河江力 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 向勇;崔炳哲
地址: 日本京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种基板清洗装置及具备该基板清洗装置的基板处理装置,所述基板清洗装置包括具有圆形的上端面的清洗刷,通过使清洗刷的上端面与利用旋转夹具旋转的基板的下表面接触,来清洗基板的下表面。为了清洗清洗刷,设置空间形成构件。空间形成构件具有下端面。另外,在空间形成构件形成有内部空间,该内部空间在下端面具有圆形开口。在圆形开口被清洗刷的上端面堵塞的状态下,向空间形成构件的内部空间供给清洗液,从而使清洗液从圆形开口经过清洗刷的上端面和空间形成构件的下端面之间流出。
搜索关键词: 清洗 装置 具备 处理
【主权项】:
一种基板清洗装置,用于清洗基板的下表面,其中,所述基板清洗装置包括:旋转保持部,将基板保持为水平姿势,并使该基板旋转,下表面清洗部,包括具有圆形的上端面的清洗工具,通过使所述清洗工具的所述上端面与利用所述旋转保持部旋转的基板的下表面接触,来清洗基板的下表面,以及,清洗工具清洗部,清洗所述清洗工具;所述清洗工具清洗部包括:空间形成构件,该空间形成构件具有下端面,且形成有内部空间,所述内部空间在所述下端面具有圆形开口,以及,清洗液供给系统,在所述空间形成构件的所述圆形开口被所述清洗工具的所述上端面堵塞的状态下,所述清洗液供给系统向所述空间形成构件的所述内部空间供给清洗液,从而使清洗液从所述内部空间经过所述圆形开口以及所述清洗工具的所述上端面与所述空间形成构件的所述下端面之间流出。
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