[发明专利]隔离阀、半导体生产设备及其清洗方法有效
| 申请号： | 201710771566.8 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN109424761B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | F16K7/02 | 分类号： | F16K7/02;F16K27/02;H01L21/67;C23C16/44;B08B5/02;B08B9/08;B08B9/093 |
| 代理公司： | 31219 上海光华专利事务所(普通合伙) | 代理人： | 余明伟<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种隔离阀、半导体生产设备及其清洗方法，隔离阀包括：阀体，阀体内设有沿其轴向贯通的通孔，通孔的直径自阀体第一端至阀体第二端逐渐减小；密封部件，密封部件包括锥台形波纹管及端盖；锥台形波纹管的长度小于或等于所述通孔的长度；端盖固定于锥台形波纹管的第一端；及气体吹扫系统，气体吹扫系统包括供气管路及至少一喷嘴。本发明的隔离阀内无死角，沉积物和清洗生成物不易在隔离阀内沉积，且在压力变化时不会产生扰流；通过气体吹扫系统可以将隔离阀内沉积的沉积物及清洗生成物从隔离阀内清理出去；从而避免对产品造成污染，提高产品的良率，同时可以大大降低了隔离阀的维护频率。 | ||
| 搜索关键词： | 隔离阀 气体吹扫系统 波纹管 锥台形 通孔 沉积物 半导体生产设备 清洗生成物 密封部件 第一端 沉积 端盖 阀体 清洗 供气管路 轴向贯通 逐渐减小 喷嘴 无死角 自阀体 良率 扰流 体内 污染 维护 | ||
【主权项】：
1.一种隔离阀，其特征在于，所述隔离阀包括：/n阀体，所述阀体包括相对的第一端及第二端；所述阀体内设有沿其轴向贯通的通孔，且所述通孔的直径自所述阀体第一端至所述阀体第二端逐渐减小；所述阀体的顶部设有安装口，所述安装口与所述通孔相连通；/n密封部件，所述密封部件包括锥台形波纹管及端盖；所述锥台形波纹管包括相对的第一端及第二端，所述锥台形波纹管适于自所述阀体的第一端插入所述通孔内，且所述锥台形波纹管的长度小于或等于所述通孔的长度；所述端盖固定于所述锥台形波纹管的第一端，且所述端盖的横向尺寸大于所述通孔的最大直径；及/n气体吹扫系统，所述气体吹扫系统包括供气管路及至少一喷嘴；所述供气管路贯穿所述端盖，一端与一供气源相连通，另一端延伸至所述锥台形波纹管的第一端处；所述喷嘴位于所述端盖靠近所述锥台形波纹管的一侧，与所述供气管路相连通，所述喷嘴至所述锥台形波纹管第一端中心的距离小于所述通孔的最大直径，且大于所述锥台形波纹管第一端的直径。/n
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