[发明专利]隔离阀、半导体生产设备及其清洗方法

说明书

本发明提供一种隔离阀、半导体生产设备及其清洗方法，隔离阀包括：阀体，阀体内设有沿其轴向贯通的通孔，通孔的直径自阀体第一端至阀体第二端逐渐减小；密封部件，密封部件包括锥台形波纹管及端盖；锥台形波纹管的长度小于或等于所述通孔的长度；端盖固定于锥台形波纹管的第一端；及气体吹扫系统，气体吹扫系统包括供气管路及至少一喷嘴。本发明的隔离阀内无死角，沉积物和清洗生成物不易在隔离阀内沉积，且在压力变化时不会产生扰流；通过气体吹扫系统可以将隔离阀内沉积的沉积物及清洗生成物从隔离阀内清理出去；从而避免对产品造成污染，提高产品的良率，同时可以大大降低了隔离阀的维护频率。

技术领域

本发明属于半导体制造技术领域，特别是涉及一种隔离阀、半导体生产设备及其清洗方法。

背景技术

在使用现有的沉积设备进行薄膜沉积的过程中，反应生成物会累积在反应腔室的内部及掉落至沉积设备的隔离阀内；在沉积完成后，使用远程等离子体系统(RPS，Remoteplasma system)对反应腔室进行清洗时，清洗生成物也会掉落至所述隔离阀内。然而，现有的隔离阀包括内部设有轴向贯通的柱状通孔的阀体及插入至所述通孔内的柱状波纹管，这就使得清洗的气流会在所述隔离阀内遇到90°折角，导致扰流以及工艺反应生成物及清洗生成物在所述波纹管与所述阀体之间的间隙及90°折角处；这使得在后续提供工艺所需压力时，产生的扰流会将沉积在所述隔离阀内的反应生成物及清洗生成物带入到所述反应腔室内，对位于所述反应腔室内处理的产品造成污染，使得产品的良率下降。且所述隔离阀容易在较短时间内即造成所述隔离阀的堵塞，需要定期对所述隔离阀进行维护清洗，所述隔离阀的维护频率较高，进而造成生产效率低下。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种隔离阀、半导体生产设备及其清洗方法，用于解决现有技术中存在的反应生成物及清洗生成物容易在隔离阀内沉积，进而会对反应腔室内的产品造成污染，使得产品的良率下降的问题，以及隔离阀需要维护频率较高、维护周期较短，从而造成生产效率低下的问题。

为实现上述目的及其它相关目的，本发明提供一种隔离阀，所述隔离阀包括：

阀体，所述阀体包括相对的第一端及第二端；所述阀体内设有沿其轴向贯通的通孔，且所述通孔的直径自所述阀体第一端至所述阀体第二端逐渐减小；所述阀体的顶部设有安装口，所述安装口与所述通孔相连通；

密封部件，所述密封部件包括锥台形波纹管及端盖；所述锥台形波纹管包括相对的第一端及第二端，所述锥台形波纹管适于自所述阀体的第一端插入所述通孔内，且所述锥台形波纹管的长度小于或等于所述通孔的长度；所述端盖固定于所述锥台形波纹管的第一端，且所述端盖的横向尺寸大于所述通孔的最大直径；及

气体吹扫系统，所述气体吹扫系统包括供气管路及至少一喷嘴；所述供气管路贯穿所述端盖，一端与一供气源相连通，另一端延伸至所述锥台形波纹管的第一端处；所述喷嘴位于所述端盖靠近所述锥台形波纹管的一侧，与所述供气管路相连通，所述喷嘴至所述锥台形波纹管第一端中心的距离小于所述通孔的最大直径，且大于所述锥台形波纹管第一端的直径。

作为本发明的一种优选方案，所述通孔的顶部侧壁与所述阀体顶部的夹角为8°～25°，所述通孔的底部侧壁与所述阀体底部的夹角为3°～15°。

作为本发明的一种优选方案，所述安装口至所述阀体第一端的距离小于所述安装口至所述阀体第二端的距离。

作为本发明的一种优选方案，所述锥台形波纹管包括第一柱状部、第二柱状部及锥台形波纹部；所述锥台形波纹部位于所述第一柱状部与所述第二柱状部之间，且与所述第一柱状部及所述第二柱状部固定连接，所述锥台形波纹部的直径自所述第一柱状部至所述第二柱状部逐渐减小；所述第一柱状部远离所述锥台形波纹部的端面与所述端盖固定连接。

作为本发明的一种优选方案，所述第一柱状部、所述第二柱状部及所述锥台形波纹部为一体成型结构。