[发明专利]通过形成基于烃的超薄膜对层进行保护的方法有效
申请号: | 201710762817.6 | 申请日: | 2017-08-30 |
公开(公告)号: | CN107794515B | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 加藤理亲;中野竜 | 申请(专利权)人: | ASMIP控股有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50;C23C16/40;H01L21/312;H01L21/316 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 江磊;郭辉 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于对层进行保护的方法包括:提供具有目标层的基材;在目标层上沉积保护层,所述保护层接触并覆盖目标层,并且由基于烃的层构成;以及在保护层上沉积氧化物层,以使得与氧化物层接触的保护层被氧化。通过等离子体增强原子层沉积(PEALD),使用烷基氨基硅烷前体和稀有气体而无需反应物的情况下形成基于烃的层。 | ||
搜索关键词: | 通过 形成 基于 薄膜 进行 保护 方法 | ||
【主权项】:
一种用于对层进行保护的方法,所述方法包括:提供具有目标层的基材;在目标层上沉积保护层,所述保护层接触并覆盖目标层,并且由基于烃的层构成,所述基于烃的层通过等离子体增强原子层沉积(PEALD)使用烷基氨基硅烷前体和稀有气体而无需反应物的情况下形成;以及在保护层上沉积氧化物层,以使得与氧化物层接触的保护层被氧化。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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