[发明专利]一种光掩模清洗工艺

摘要

一种光掩模清洗工艺，包括脱膜；先将光掩模固定在清洗机台上，然后将带有真空保护罩吸头的保护罩放在光掩模板上，抽真空，当压力达到10‑1～10‑3Pa时停止抽真空；利用干法或/和湿法清洗光掩模上的残胶，清洗完后用高纯水冲洗光掩模数次；向保护罩中注入气体使保护罩和光掩模分离，然后将光掩模除胶保护罩移走；先用高纯水超声冲洗光掩模，然后用光照射光掩模，重复光照射和超声冲洗数次，最后再用高纯水超声冲洗光掩模。本发明的优点在于可显著提高光掩模使用寿命，大幅降低光罩成本。

主权项

一种光掩模清洗工艺，其特征在于，所述工艺包括：脱膜：去除光掩模表面的保护薄膜；抽真空：先将光掩模固定在清洗机台上，然后将带有真空保护罩吸头的保护罩放在光掩模板上，抽真空，当压力达到10‑1～10‑3Pa时停止抽真空；去胶质：利用干法或/和湿法清洗光掩模上的残胶一定时间，清洗完后用高纯水冲洗光掩模数次；充气、移走保护罩：向保护罩中注入气体使保护罩和光掩模分离，然后将光掩模除胶保护罩移走；清洗：先用高纯水超声冲洗光掩模，然后用光照射光掩模，重复光照射和超声冲洗数次，最后再用高纯水超声冲洗光掩模。