[发明专利]用于控制外延沉积腔室流量的注入及排放设计

摘要

本文所述的实施方式大体上是关于处理腔室中的流量控制。所述处理腔室可包括流量控制排放器与宽注入器的组合。当多种处理气体进入和离开所述腔室时，所述流量控制排放器与所述宽注入器可提供所述多种气体的受控流量，以及控制已经存在于所述腔室中的所述多种气体。因此，整体的沉积分布可维持得更均匀。

主权项

一种装置，包括：处理腔室，所述处理腔室限定所述处理腔室中的处理区域；基板支撑件，所述基板支撑件设置于所述处理腔室内，所述基板支撑件具有基板支撑表面；及注入器，所述注入器流体连接于所述处理区域，所述注入器包括：一个或多个注入入口；一个或多个注入路径，所述一个或多个注入路径流体连接于所述一个或多个注入入口的至少一个；及一个或多个注入端口，所述一个或多个注入端口流体连接于所述注入路径的至少一个；中心线，所述中心线将所述一个或多个注入路径中的一个注入路径二等分；及流量控制排放器，所述流量控制排放器流体连接于所述处理区域，所述流量控制排放器具有偏移的传导性。