[发明专利]光敏保护基保护的5-醛基胞嘧啶亚磷酰胺单体及其制备方法和寡聚核苷酸的合成和应用有效

专利信息
申请号: 201710600724.3 申请日: 2017-07-21
公开(公告)号: CN107474091B 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 周传政;席真;李凤超;章映茜;白静 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: C07H19/073 分类号: C07H19/073;C07H1/00;C07H21/04;C07H21/00
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 严政;刘依云
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及寡聚核苷酸的化学合成领域,公开了光敏保护基保护的5‑醛基胞嘧啶亚磷酰胺单体及其制备方法和寡聚核苷酸的合成和应用。该光敏保护基保护的5‑醛基胞嘧啶亚磷酰胺单体的化学结构如式(1)所示,其中,R为甲基或苯基。本发明所述的5‑醛基胞嘧啶亚磷酰胺单体用于制备5‑醛基胞嘧啶定点修饰的核苷酸,在研究5‑醛基胞嘧啶的生化性质特别是5‑醛基胞嘧啶与蛋白质相互作用方面有着广泛的应用前景。
搜索关键词: 光敏 保护 胞嘧啶 亚磷酰胺 单体 及其 制备 方法 核苷酸 合成 应用
【主权项】:
1.一种光敏保护基保护的5‑醛基胞嘧啶亚磷酰胺单体,其特征在于,其化学结构式为:其中,R为甲基或苯基,“DMTrO‑”为二甲氧基三苯甲基,“N(iPr)2‑”为N,N‑二异丙基胺基;其中,所述光敏保护基为1‑(2‑硝基苯基)丙烷‑1,3‑二醇。
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