[发明专利]一种等离子体刻蚀系统的喷淋头在审
| 申请号： | 201710571317.4 | 申请日： | 2017-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN107516625A | 公开（公告）日： | 2017-12-26 |
| 发明（设计）人： | 车东晨;李娜;胡冬冬;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/3065;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京得信知识产权代理有限公司11511 | 代理人： | 孟海娟,崔建丽 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体刻蚀系统的喷淋头，主体呈圆盘状，盘体上表面近边缘处设有第一环形凸缘、进气槽、第二环形凸缘和导气通道，其中，所述进气槽设置在所述第一环形凸缘和所述第二环形凸缘之间，所述第二环形凸缘和所述导气通道交错分布且整体呈环状，盘体中央区域设有内外两圈呈同心环形且均匀分布的第一进气孔，在所述中央区域的外圈进气孔与所述第二环形凸缘之间，还设有一圈或多圈呈同心环形，不均匀分布的第二进气孔，还包括气体挡块，在工艺加工过程中根据气体分布范围对所述第二进气孔进行选择性遮挡。本发明能够有效提高等离子体刻蚀的均匀性同时实现了进气匀流的可调节性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 刻蚀 系统 喷淋 | ||
【主权项】：
一种等离子体刻蚀系统的喷淋头，主体呈圆盘状，其特征在于，盘体上表面近边缘处设有第一环形凸缘、进气槽、第二环形凸缘和导气通道，其中，所述进气槽设置在所述第一环形凸缘和所述第二环形凸缘之间，所述第二环形凸缘和所述导气通道交错分布且整体呈环状，盘体中央区域设有内外两圈呈同心环形且均匀分布的第一进气孔，在所述中央区域的外圈第一进气孔与所述第二环形凸缘之间，还设有一圈或多圈呈同心环形，不均匀分布的第二进气孔，还包括气体挡块，在工艺加工过程中根据气体分布范围对所述第二进气孔进行选择性遮挡。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏鲁汶仪器有限公司，未经江苏鲁汶仪器有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710571317.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种陶瓷花盆
- 下一篇：煤矿塌陷地抗侵蚀绿化垫
