[发明专利]一种真空离子镀电化学退镀液配方有效
| 申请号： | 201710557320.0 | 申请日： | 2017-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN107460532B | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 朱常锦;朱元义 | 申请（专利权）人： | 广州市双石金属制品有限公司 |
| 主分类号： | C25F5/00 | 分类号： | C25F5/00 |
| 代理公司： | 广州科粤专利商标代理有限公司 44001 | 代理人： | 蒋欢妹;莫瑶江 |
| 地址： | 511440 广东省广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空离子镀电化学退镀液配方，按质量百分比计，该配方包括1‑5％的腺苷二磷酸酰胺衍生物或腺苷三磷酸酰胺衍生物，5‑15％的强酸，0.1‑1％的硅酸钠，0.1‑5％的EDTA，2‑20％的盐，0.1‑3％的乌洛托品，0.1‑1％的三乙醇胺，其余为溶剂；本发明和传统的退镀液相比，在于加入了腺苷二磷酸酰胺衍生物和腺苷三磷酸酰胺衍生物，利用其独特的分子结构，与膜层材料相互作用，加速了退镀的速率，具有明显的进步。 | ||
| 搜索关键词： | 酰胺衍生物 退镀液 配方 腺苷二磷酸 腺苷三磷酸 真空离子镀 电化学 质量百分比 分子结构 膜层材料 三乙醇胺 乌洛托品 传统的 硅酸钠 溶剂 强酸 退镀 | ||
【主权项】：
1.一种真空离子镀电化学退镀液配方，其特征在于，按质量百分比计，该配方包括1‑5％的腺苷二磷酸酰胺衍生物和/或腺苷三磷酸酰胺衍生物，5‑15％的强酸，0.1‑1％的硅酸钠，0.1‑5％的EDTA，2‑20％的盐，0.1‑3％的乌洛托品，0.1‑1％的三乙醇胺，其余为溶剂；所述的腺苷二磷酸酰胺衍生物或腺苷三磷酸酰胺衍生物可单独使用，也可混合使用；所述的强酸选自盐酸、硫酸和硝酸的任何一种；所述的盐选自醋酸钠、氯化钠、硝酸钠的一种或两种以上；所述的溶剂选自水、乙醇中的任何一种或两种；所述腺苷二磷酸酰胺衍生物的结构如式Ⅰ所示，所述腺苷三磷酸酰胺衍生物的结构如式Ⅱ所示：![]()
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