[发明专利]用于屏障化学机械平面化的添加剂有效
| 申请号： | 201710534198.5 | 申请日： | 2017-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN107586517B | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | M·G·格拉汉姆;M·施滕德尔;D·C·坦姆伯利;史晓波 | 申请（专利权）人： | 弗萨姆材料美国有限责任公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B37/04;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴亦华;吕小羽 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文提供了包含适合的化学添加剂的屏障化学机械平面化抛光组合物。适合的化学添加剂是硅酸盐化合物和高分子量聚合物/共聚物。本文还提供了使用所述屏障化学机械平面化抛光组合物的化学机械抛光方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 屏障 化学 机械 平面化 添加剂 | ||
【主权项】：
一种抛光组合物，其包含：水；磨料；聚合物，所述聚合物选自聚(丙烯酸)、聚(甲基丙烯酸)、聚(2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基‑1‑丙磺酸)、羧甲基纤维素、甲基纤维素、羟丙基甲基纤维素、聚‑(1‑乙烯基吡咯烷酮‑共‑甲基丙烯酸2‑二甲基氨基乙基酯)、聚(4‑苯乙烯磺酸钠)、聚(环氧乙烷)、聚(4‑苯乙烯磺酸)、聚丙烯酰胺、聚(丙烯酰胺/丙烯酸)共聚物，及其组合，及其盐，并且其中所述聚合物的分子量为30,000至30,000,000道尔顿；腐蚀抑制剂；无机硅酸盐；氧化剂，以及，任选地，表面活性剂；pH调节剂；螯合剂；其中所述抛光组合物的pH为约7至约11.5，并且其中所述抛光组合物的粘度为约1.5cP至约10cP。
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