[发明专利]掩膜及其制备方法有效
申请号: | 201710496063.4 | 申请日: | 2017-06-26 |
公开(公告)号: | CN107663623B | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 陈仁杰;林昌廷;吕柏毅 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L27/32 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 汪飞亚 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种掩膜,其包括塑料层及与所述塑料层结合的框体和多个磁性元件,所述塑料层包括相对的第一表面和第二表面,所述框体设置在所述塑料层的第一表面且覆盖第一表面的周边,所述多个磁性元件设置在所述塑料层的第一表面,所述塑料层上开设有贯穿所述第一表面和所述第二表面的多个开口,沿每一个磁性元件与第一表面结合的一端指向每一个磁性元件远离第一表面的一端,每一个磁性元件逐渐变细。所述掩膜用于沉积OLED显示面板,可降低或避免Shadow Effect。本申请还提供所述掩膜的制备方法。 | ||
搜索关键词: | 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种掩膜,其包括塑料层及与所述塑料层结合的框体和多个磁性元件,所述塑料层包括相对的第一表面和第二表面,所述框体设置在所述塑料层的第一表面且覆盖第一表面的周边,所述多个磁性元件设置在所述塑料层的第一表面,所述塑料层上开设有贯穿所述第一表面和所述第二表面的多个开口,其特征在于:沿每一个磁性元件与第一表面结合的一端指向每一个磁性元件远离第一表面的一端,每一个磁性元件逐渐变细。
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